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光學掩模板_光學掩模板定製加工
光刻掩膜版（又稱光罩，英文為(wei) Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產(chan) 品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構成。其圖形結構可通過製版工藝加工獲得，常用加工設備為(wei) 直寫(xie) 式光刻設備，如激光直寫(xie) 光刻機、電子束光刻機等。
掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電係統）等。
掩膜版的分類
透明基板
1、透明玻璃 。石英玻璃（Quartz Glass）蘇打玻璃（Soda-lime Glass）低膨脹玻璃（Low Expansion Glass）
2、透明樹脂
遮光膜
（1）硬質遮光膜：鉻膜氧化鐵矽化鉬矽。
（2）乳膠。
材料厚度(公製):
0.03mm,0.05mm,0.08mm,0.06mm,0.1mm,0.12mm,0.15mm,0.18mm,0.2mm
產(chan) 品特點:
激光加工線條均均，無毛剌，無缺口
產(chan) 品價(jia) 格:
以材料材質、厚度、精度要求、量產(chan) 數量綜合核定
加工能力:可大批量加工
樣品提供:
付費打樣，樣品3天內(nei) ，最快24小時出樣，量大可申請免費樣品
梁經理