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洗淨液CMP1400S
特性與(yu) 賣點：高PH值，有效去除有機和無機微粒、低泡、易漂洗，極低金屬離子含量。太陽能晶園研磨後的油脂，研磨拋光劑，無機粉塵，適合半導體(ti) 回路製造、半導體(ti) 組件、光刻膠顯影後、CMP前後處理、CVD前後處理洗淨液。
使用方法：1、刷洗、噴淋、超聲波
2、濃度：3-30%
包 裝：20L/桶
洗淨液CMP1406
特性與(yu) 賣點：高PH值，藍寶石洗淨液，晶園研磨後表麵所附著油脂，蠟，研磨拋光劑與(yu) 粉塵，洗淨力佳，螯和力強，低泡易生物分解，低COD，螯合分解力強，低殘留，易漂洗，耐硬水。
使用方法：1、刷洗、噴淋、超聲波
2、濃度：3-30%
包 裝：20L/桶