日本半導體曝光設備用光源領域的大型廠商Gigaphoton稱其EUV光源掃描儀實現了連續運行和穩定發射：激光驅動等離子光源原型實現了輸出達108W，平均能量穩定性為0.5%的結果。
Gigaphoton副總裁兼首席技術官Hakaru Mizoguchi表示：“我們成功研發出持續運作24小時、輸出達108W的EUV光源掃描儀，說明了我們正在接近完成低成本、高輸出穩定運行的EUV光源的研發；而這也正是半導體廠商所需要的。”
這一成果建立在一些關鍵技術基礎上：例如能生成直徑為20微米或更小錫滴的液滴生成器、固態預脈衝及主脈衝CO2激光器以及采用磁場與能量控製技術的碎片減緩技術等。
位於日本築波的超紫外光刻基礎設施研發中心（EIDEC）也在使用Gigaphoton公司的EUV光源。
Gigaphoton公司計劃在2015年底研發出250W級別高輸出實驗裝置，這也是內存儲設備量產所需的技術。
Mizoguchi表示：“我可以肯定的是當我們將該技術推向市場的時候，也就是下一代曝光技術出現的時候；同時我也相信將極大地改善半導體的性能，並作為支持信息技術的核心技術為行業的發展帶來劃時代的貢獻。”
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