——訪Beda Espinoza，MKS & Newport 運動控製產品高級研發經理
本次光博會，Newport（理波）公司展出了旗下一係列創新產品。MKS & Newport 運動控製產品高級研發經理Beda Espinoza先生在受訪時向我們一一介紹道，“例如，我們在同期的Semicon china（中國半導體展）展台上帶來了全新的工業級電動垂直位移台 IDL280-Z20，它適用於需要高負載能力的工業應用；而CeraMech碳化矽位移台則將創新的碳化矽材料作為平台基體，以較低的價格提供了氣浮軸承平台所需的出眾性能。這兩款產品都是針對半導體或包括晶圓加工到激光微加工等在內的工業應用所設計。”他一一悉數。
而在光博會的主展位，Newport展出的是其最新的XPS-Dx通用型運動控製器。據 Espinoza先生介紹，該係列控製器具有更快的伺服響應速度，4軸位置同步，配有一款可實現1nm MIM最小位移增量的通用數字驅動器。“升級的版本在控製速度、精度和執行複雜運動控製方麵有重大改進，同時更輕更緊湊。我們甚至可以降低這款控製器的價格，使其不僅在性能上能夠很好地服務於市場，同時展現出更高的成本效益。”另外，他表示對於研究人員而言，中國正成為高級研發中心，Newport也已推出用於超快光譜領域的DL係列光纖延遲線，由此通過專門設計用於處理泵浦探測或多維光譜的延遲線加快了材料和工藝的研究進程。
Beda Espinoza，MKS & Newport 運動控製產品高級研發經理
另一款重要的產品是HXP200-MECA六軸並聯定位係統，它能夠提供六維自由度運動，負載能力50kg，特別適合於需要高負載、高精度能力和高複雜運動的校準、生產和測試等應用領域。“與HXP係列搭配的還包括我們最新的HXP仿真軟件V1.1，該仿真軟件可以向用戶指示在操作HXP並聯定位係統時是否會發生碰撞，具體通過在HXP使用的模擬環境中創建或上傳三維物體，並相應模擬位置以及驗證碰撞可能性。”他補充道。
在Espinoza先生看來，未來中國市場的規模和潛力將繼續增長，而Newport也將不斷為中國市場推出更多量身定製的產品。“我覺得激光和半導體等行業對光電產品的需求正在加速釋放，我們將順勢而為。例如，隨著越來越多的應用領域被開發出來，我們的IDL係列直線位移台的需求將持續上升，這些應用主要包括空氣淨化、非接觸式組件以及硬性覆蓋物等。”
同時，Espinoza先生表示，自2016年Newport集團被萬機儀器(MKS Instruments)收購以來，兩家公司之間的協同效應不斷加深。“結合MKS全球領先的真空和控製解決方案與Newport的光源、光電儀器、激光器、光學平台、運動控製、光學機械構件、光學元件、光分析與測量等門類齊全的光電科技產品，這種強強聯手的優勢使我們能夠以最快的速度和最優的品質向市場源源不斷推出引領科技前沿的光電技術、產品和解決方案，並且能夠滿足各個終端應用領域的獨特需求。”
最後，Espinoza先生透露，Newport公司近兩年也將會有擴張計劃，雖然具體細節目前還無法透露，但有理由相信，求新求變，不斷衝擊光電領域的至高點定是公司的核心目標。
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