觸摸屏通常由透明導電氧化物（TCO）薄膜組成，這些薄膜被劃線來形成絕緣電極和互聯，這通常使用化學濕法光刻蝕。激光刻蝕技術利用激光直接在透明基板上對薄膜進行刻蝕，通過計算機控製激光光束的移動，激光對薄膜材料進行選擇性氣化，形成所需要的圖形。本項目研究的設備和工藝可以在一個(ge) 工作周期內(nei) 同時完成整個(ge) 模組的ITO和銀漿的刻蝕加工，因此減少了加工工序，大大提高加工產(chan) 品的生產(chan) 效率。

核心技術：

本項目設備集數控技術、激光技術、軟件技術等光機電技術為(wei) 一體(ti) ，對傳(chuan) 統的化學工藝進行了徹底革新，具有高靈活性、高精度、高速度等先進製造技術的特征。

創新點：

1、通過CCD實現了64X64網格高精度的多點、全自動校正。目前市麵上多為(wei) 3X3或5X5精度的網格，且非自動校正。

2、可完成複雜圖形的精細刻線。設備采用固體(ti) 激光器，激光波長1064nm、532nm、355nm等，適合對導電薄膜與(yu) 鍍層進行精細刻線。

3、加工工序少，提高工作效率。該設備可以在一個(ge) 工作周期內(nei) 同時完成整個(ge) 模組的ITO和銀漿的刻蝕加工，減少了加工工序，大大提高加工產(chan) 品的生產(chan) 效率。

4、適應性強，不會(hui) 隨著產(chan) 業(ye) 發展被淘汰。隨著電子行業(ye) 的發展，、傳(chuan) 統的化學刻蝕工藝將不適用於(yu) 對石墨烯薄膜的刻蝕加工，然而激光刻蝕工藝卻是可以輕鬆完成這項工作的。

技術指標：

1、激光器：固體(ti) 激光器；

2、激光波長：1064nm、355nm、532nm；

3、激光功率： 10W/20W；

4、刻蝕線寬：＜40μm；

5、刻蝕速度：1200mm/s；

6、加工範圍：550mm×550mm；

7、校正方式：64X64網格全自動校正。