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市場研究

激光直寫光刻設備市場預計2029年將達到160.25百萬美元

fun88网页下载 來源:QYResearch2023-08-03 我要評論(0 )   

光刻機是製作高精度掩模版的關(guan) 鍵設備。使用極細的激光光束,在極其精密自動控製係統控製下於(yu) 掩模版基材上繪製出高精密線路圖形。激光直寫(xie) 是利用強度可變的激光束對基片...

光刻機是製作高精度掩模版的關鍵設備。使用極細的激光光束,在極其精密自動控製係統控製下於掩模版基材上繪製出高精密線路圖形。

激光直寫(xie) 是利用強度可變的激光束對基片表麵的抗蝕材料(光刻膠)實施變劑量曝光,顯影後在抗蝕層表麵形成所要求的浮雕輪廓。激光直寫(xie) 光刻係統的基本工作原理是由計算機控製高精度激光束掃描,在光刻膠上直接曝光寫(xie) 出所設計的任意圖形,從(cong) 而把設計圖形直接轉移到掩模上。
激光直寫(xie) 光刻機是一種用於(yu) 物理學、信息科學與(yu) 係統科學、材料科學、機械工程領域的儀(yi) 器,該設備是基於(yu) 空間光調製器的直寫(xie) 光刻設備,用於(yu) 製作光刻掩膜。
傳(chuan) 統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專(zhuan) 業(ye) 供應商提供,但是在研發環境中,掩膜板的設計通常需要經常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板的方法,克服了這一問題。與(yu) 通過物理掩膜板進行光照的傳(chuan) 統工藝不同,激光直寫(xie) 是通過電腦控製一係列激光脈衝(chong) 的開關(guan) ,在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

2022年全球激光直寫(xie) 光刻設備市場規模達到了113.42百萬(wan) 美元,預計2029年將達到160.25百萬(wan) 美元,2023-2029年複合增長率(CAGR)為(wei) 5.21%。
地區層麵來看,中國市場在過去幾年變化較快,2022年市場規模為(wei) 17.32百萬(wan) 美元,約占全球的15.27%,預計未來幾年增長較快,預計2029年將達到28.68百萬(wan) 美元,2023-2029年複合增長率(CAGR)為(wei) 7.91%,屆時全球占比將達到17.89%。
從(cong) 產(chan) 品類型及技術方麵來看,2022年2D係統銷量占據92.14%的比例,2022年銷量為(wei) 213台,預計2029年為(wei) 328台。3D係統預計銷量增速較快,3D係統2022年銷量為(wei) 18台,預計2029年為(wei) 35台。市場規模上看,2022年2D係統全球市場規模為(wei) 101.20百萬(wan) 美元,3D係統全球市場規模為(wei) 12.22百萬(wan) 美元。價(jia) 格上看,2022年2D係統銷售均價(jia) 為(wei) 475千美元每台,3D係統銷售均價(jia) 為(wei) 673千美元每台,2022年激光直寫(xie) 光刻設備均價(jia) 為(wei) 491千美元每台。預計未來激光直寫(xie) 光刻設備價(jia) 格將呈現下降趨勢,預計2029年2D係統單價(jia) 為(wei) 423千美元每台,3D係統單價(jia) 為(wei) 621千美元每台,兩(liang) 種類型激光直寫(xie) 光刻設備價(jia) 格均下降,但3D係統價(jia) 格下降幅度相較之下略小。
從(cong) 產(chan) 品市場應用情況來看,用於(yu) 掩膜版製造的激光直寫(xie) 光刻設備2022年銷售收入為(wei) 35.25百萬(wan) 美元,占比最高,其次是IC封裝、FPD製造、微機電和其他應用,分別為(wei) 28.41 、25.84 、6.99 和16.93百萬(wan) 美元,預計2029年這些應用端銷售收入分別為(wei) 39.89 、35.61 、9.84 和24.45百萬(wan) 美元,其中微機電和其他應用(如生物醫學、微製造等)增長較快,年複合增長率(CAGR)分別為(wei) 5.53%和5.49%。
目前全球主要廠商包括Heidelberg Instruments、Raith (4PICO Litho)、Mycronic、Ushio Inc.和SCREEN Holdings等,2022年前五大廠商銷售收入為(wei) 65.12百萬(wan) 美元,份額占比達到57.41%,預計未來幾年行業(ye) 競爭(zheng) 將更加激烈,尤其在中國市場。
總體(ti) 來看,該行業(ye) 屬於(yu) 典型的技術密集型行業(ye) ,資本投入大、研發周期長、人才稀缺都是其典型特點。從(cong) 行業(ye) 發展來說,激光直寫(xie) 光刻設備當前趨勢較好,且替代掩膜版光刻設備優(you) 勢大,市場空間較大。在國家層麵而言,歐洲、日本、中國等是主要的生產(chan) 國。從(cong) fun88官网平台直寫(xie) 光刻設備廠商發展而言,技術積累、人才儲(chu) 備、客戶資源積累、銷售渠道拓展和自身宣傳(chuan) 等都是企業(ye) 發展重要的影響因素,此外,企業(ye) 也需要對上下遊市場現狀有充分認識,如下遊半導體(ti) 、PCB等行業(ye) 景氣度變化等因素,將是影響企業(ye) 收入和利潤的重要因素。


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