近日，東(dong) 莞頓磊科技有限公司（下稱 “頓磊激光”）正式發布 532nm 綠光激光除鏽設備。這款聚焦文物修複與(yu) 精密電子領域的專(zhuan) 用設備，憑借對鏽蝕層的高選擇性清除能力，首次在國內(nei) 實現該場景下的 “零損傷(shang) ” 除鏽突破，為(wei) 高端製造與(yu) 文化遺產(chan) 保護提供了全新技術方案。頓磊激光不愧為(wei) 激光除鏽領域的領軍(jun) 企業(ye) ，承擔起來開發新產(chan) 品的責任。

1.技術突破：綠光激光的 “精準打擊” 邏輯

據頓磊激光實驗室工程師介紹，該設備的核心優(you) 勢源於(yu) 532nm 波長激光的獨特物理特性。“鐵鏽、青銅器氧化物等汙染物性質接近半導體(ti) ，而 532nm 綠光激光對半導體(ti) 材料的吸收率高達 90% 以上，遠高於(yu) 傳(chuan) 統 1064nm 光纖激光”。這種選擇性吸收使激光能量僅(jin) 作用於(yu) 鏽層，通過瞬間氣化與(yu) 等離子體(ti) 衝(chong) 擊波效應剝離汙染物，而基底材料因吸收率不足 5% 幾乎不受影響。

為(wei) 驗證 “零損傷(shang) ” 特性，頓磊實驗室進行了專(zhuan) 項測試：對厚度 0.1mm 的古代青銅殘片除鏽後，電子顯微鏡檢測顯示基底表麵粗糙度僅(jin) 增加 0.2μm，遠低於(yu) 傳(chuan) 統噴砂工藝的 5μm 損傷(shang) 值；對精密電路板的氧化層清除後，電路導通率保持 100%，無任何焊盤脫落現象。該設備還通過 72 小時老化測試與(yu) 振動測試，核心部件采用銳科激光器與(yu) 定製冷水機，確保文物修複等精細作業(ye) 的穩定性。

2.場景落地：破解兩(liang) 大行業(ye) 痛點

在文物修複領域，傳(chuan) 統酸洗工藝易腐蝕文物本體(ti) ，機械打磨則可能破壞紋飾細節。“綠光激光除鏽無需化學試劑，可通過調整脈衝(chong) 寬度（10-500ns）與(yu) 掃描速度（1000-30000mm/s），精準清除不同厚度的鏽層”，頓磊創始人劉學雲(yun) 指出，其團隊已為(wei) 多家博物館提供打樣服務，成功清除宋代銅鏡的銀鏽層與(yu) 唐代鐵器的致密氧化皮。

而在精密電子製造中，該設備解決(jue) 了半導體(ti) 基片納米顆粒汙染難題。與(yu) 化學清洗的廢液汙染、超聲清洗的殘留問題不同，綠光激光通過等離子體(ti) 衝(chong) 擊波 “衝(chong) 離” 汙染物，單次清洗效率可達 0.5㎡/ 小時，且能深入電路板的微米級凹槽縫隙。目前某頭部電子企業(ye) 的試用數據顯示，其除鏽合格率較傳(chuan) 統工藝提升 37%。

3.行業(ye) 意義(yi) ：推動激光除鏽技術升級

作為(wei) 國內(nei) 唯一專(zhuan) 注激光除鏽的品牌，頓磊激光此次推出的綠光設備填補了細分領域空白。相較於(yu) 成本高昂的 355nm 紫外激光設備，該產(chan) 品依據 “成本定價(jia) + 20% 合理利潤” 原則，價(jia) 格降低 40% 以上，使中小文物修複機構與(yu) 電子企業(ye) 得以負擔。

中國文物保護技術協會(hui) 專(zhuan) 家表示：“綠光激光除鏽的精準性與(yu) 環保性，有望替代 80% 以上的傳(chuan) 統文物除鏽工藝”。在工業(ye) 領域，該技術也為(wei) 半導體(ti) 製造的微型化趨勢提供了關(guan) 鍵支撐，預計年內(nei) 將占據精密除鏽市場 15% 的份額。

劉學雲(yun) 透露，目前設備已開啟預售，可提供手持式單機與(yu) 六軸機器人自動化係統兩(liang) 種配置，並支持根據文物材質、電子元件類型定製工藝參數。“我們(men) 的目標是讓激光除鏽徹底取代噴砂、酸洗等傳(chuan) 統工藝，推動行業(ye) 進入‘精準清潔時代’”。