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鍍膜

真空鍍膜設備篇

星之球科技 來源:成都市江泰真空鍍膜科技2011-07-28 我要評論(0 )   

真空:低於(yu) 一個(ge) 大氣壓的氣體(ti) 狀態。 1643年,意大利物理學家托裏拆利(E.Torricelli)首創著名的大氣壓實驗,獲得真空。 自然真空:氣壓隨海拔高度增加而減小,存在於(yu) 宇宙...

真空:低於(yu) 一個(ge) 大氣壓的氣體(ti) 狀態。

1643年,意大利物理學家托裏拆利(E.Torricelli)首創著名的大氣壓實驗,獲得真空。

自然真空:氣壓隨海拔高度增加而減小,存在於(yu) 宇宙空間。

人為(wei) 真空:用真空泵抽掉容器中的氣體(ti) 。

n 真空量度單位

1標準大氣壓=760mmHg=760(Torr)

1標準大氣壓=1.013x105 Pa

1Torr=133.3Pa

n 真空區域的劃分

目前尚無統一規定,常見的劃分為(wei) :

粗真空 105-103pa(760-10Torr)

低真空 103-10-1pa(10-10-3Torr)

高真空 10-1-10-6pa(10-3-10-8Torr)

超高真空 10-6-10-10pa(10-8-10-12Torr)

極高真空 <10-10pa(<10-12Torr)

n 真空技術的應用

電子技術、航空航天技術、加速器、表麵物理、微電子、材料科學、醫學、化工、工農(nong) 業(ye) 生產(chan) 、日常生活等各個(ge) 領域。

  • OLED蒸發設備
  • 離子鍍膜設備
  • 立式ITO鍍膜生產線
  • 臥式ITO鍍膜生產線
  • 雙槍電子束蒸發鍍膜機
  • 全自動電子束蒸發鍍膜機
  • 單槍電子束蒸發鍍膜機
  • 卷繞鍍膜機
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    複合真空鍍膜機
  • 多弧離子鍍膜機
  • 磁控濺射鍍膜機
  • 電阻蒸發鍍膜機

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