中頻磁控+多弧離子濺射鍍膜機

該設備具有：結構合理、膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作周期短、生產(chan) 效率高、操作方便、能耗低性能穩定等優(you) 點。廣泛應用於(yu) 切削刀具如齒輪滾刀，插刀，銑刀，鑽頭等表麵沉積超硬塗層，也可用於(yu) 鍾表，眼鏡架，手機殼、鎖具，潔具等各類小五金表麵沉積裝飾塗層，本設備可實現一機多用沉積多種膜層，膜層細膩，有純鈦（ Ti ） 氮化鈦（ TiN ） 氧化鈦（ TiO ） 純鋯（ Zr ） 氮化鋯（ ZrN ） 碳化鈦（ TiC ） 純鉻（ Cr ） 氮化鉻（ CrN ） 碳氮化鈦（ TiCN ） 氮化鋁鈦（ TiAlN ）， PVD 鍍膜膜層目前常見的顏色主要有： 深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色, 藍色等。亮度好，飽滿度好
本公司可以根據用戶要求設計各種規格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控係統也可根據用戶要求進行設計配置。

參數說明：

型號	HY-1200	HY-1400	HY-1600	HY-1800
真空室尺寸	Φ 1200Χ1600mm	Φ 1200Χ2000mm	Φ 1600Χ2000 mm	Φ 1800Χ2000 mm
電源類型	高頻逆變弧電源，大功率中頻電源
真空室結構	立式單開門、後置抽氣係統
極限真空	6.0Χ10-4pa
真空係統	擴散泵 +羅茨泵+機械泵+維持泵
抽氣時間	從(cong) 大氣抽至 5Χ10-2Pa小於(yu) 或者等於(yu) 5分鍾
工件運動方式	公自轉 /變頻調速
控製方式	手動 /自動一體(ti) 化式，觸摸屏+PLC
備注	真空室尺寸可按客戶產(chan) 品及特殊工藝要求訂做

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