特種氣體(ti)  (Specialty gases)是指那些在特定領域中應用的,對氣體(ti) 有特殊要求的純氣、高純氣或由高純單質氣體(ti) 配製的二元或多元混合氣。特種氣體(ti) 門類繁多,通常可區分為(wei) 電子氣體(ti) 、標準氣、環保氣、醫用氣、焊接氣、殺菌氣等,廣泛用於(yu) 電子、電力、石油化工、采礦、鋼鐵、有色金屬冶煉、熱力工程、生化、環境監測、醫學研究及診斷、食品保鮮等領域。 
電子氣體(ti)  (Electronic gases)半導體(ti) 工業(ye) 用的氣體(ti) 統稱電子氣體(ti) 。按其門類可分為(wei) 純氣、高純氣和半導體(ti) 特殊材料氣體(ti) 三大類。特殊材料氣體(ti) 主要用於(yu) 外延、摻雜和蝕刻工藝;高純氣體(ti) 主要用作稀釋氣和運載氣。電子氣體(ti) 是特種氣體(ti) 的一個(ge) 重要分支。電子氣體(ti) 按純度等級和使用場合,可分為(wei) 電子級、LSI(大規模集成電路)級、VLSI(超大規模集成電路)級和ULSI(特大規模集成電路)級。  
標準氣體(ti) (Standard gases)標準氣體(ti) 屬於(yu) 標準物質。標準物質是高度均勻的、良好穩定和量值準確的測定標準,它們(men) 具有複現、保存和傳(chuan) 遞量值的基本作用,在物理、化 學、生物與(yu) 工程測量領域中用於(yu) 校準測量儀(yi) 器和測量過程,評價(jia) 測量方法的準確度和檢測實驗室的檢測能力,確定材料或產(chan) 品的特性量值,進行量值仲裁等。大型乙烯廠、合成氨廠及其它石化企業(ye) ,在裝置開車、停車和正常生產(chan) 過程中需要幾十種純氣和幾百種多組分標準混合氣,用來校準、定標生產(chan) 過程中使用的在線分析儀(yi) 器和分析原料及產(chan) 品 質量的儀(yi) 器。標準氣還可用於(yu) 環境監測,有毒的有機物測量,汽車排放氣測試,天然氣BTU測量,液化石油氣校正標準,超臨(lin) 界流體(ti) 工藝等。標準氣視氣體(ti) 組分數區分為(wei) 二元、三元和多元標準氣體(ti) ;配氣準度要求以配氣允差和分析允差來表征;比較通用的有SE2MI配氣允差標準,但各公司均有企業(ye) 標準。組分的最低濃度為(wei) 10-6級,組分數可多達20餘(yu) 種。配製方法可采用重量法,然後用色譜分析校核,也可按標準傳(chuan) 遞程序進行傳(chuan) 遞。 
外延氣體(ti) (Cpitaxial gases)在仔細選擇的襯底上采用化學氣相澱積(CVD)的方法生長一層或多層材料所用氣體(ti) 稱為(wei) 外延氣體(ti) 。矽外延氣體(ti) 有4種,即矽烷、二氯二氫矽、三氯氫矽和四氯化矽,主要用於(yu) 外延矽澱積,多晶矽澱積,澱積氧化矽膜,澱積氮化矽膜,太陽電池和其他光感受器的非晶矽膜澱積。外延生長是一種單晶材料澱積並生長在襯底表麵上的過程。此外延層的電阻率往往與(yu) 襯底不同。  
蝕刻氣體(ti)  (Etching gases)蝕刻就是把基片上無光刻膠掩蔽的加工表麵如氧化矽膜、金屬膜等蝕刻掉,而使有光刻膠掩蔽的區域保存下來,這樣便在基片表麵得到所需要的成像圖形。蝕刻的基本要求是,圖形邊緣整齊,線條清晰,圖形變換差小,且對光刻膠膜及其掩蔽保護的表麵無損傷(shang) 和鑽蝕。蝕刻方式有濕法化學蝕刻和幹法化學蝕刻。幹法蝕刻所用氣體(ti) 稱蝕刻氣體(ti) ,通常多為(wei) 氟化物氣體(ti) ,例如四氟化碳、三氟化氮、六氟 乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。幹法蝕刻由於(yu) 蝕刻方向性強、工藝控製精確、方便、無脫膠現象、無基片損傷(shang) 和沾汙,所以其應用 範圍日益廣泛。