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| 晶矽太陽能電池激光刻槽設備 | |
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刻線線寬: 12-30μm,±3μm 刻線深度: 2-5μm,±2μm 刻線速度: 可調,最大4s/片 直線度: ±20μm 工作台重複定位精度:±10μm 額定輸入電壓: 三相380VAC,50Hz/60Hz,帶保護地線 冷卻方式: 水冷 加工範圍: 125×125mm、156×156mm
應用領域: 專(zhuan) 用於(yu) 晶矽太陽能電池選擇性擴散
設備特征: 六工位全自動工作平台,加工速度快 操作簡單,維修費用低 軟件自動控製 性價(jia) 比高 樣品展示:
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