2月23日—27日，第39屆先進光刻技術會(hui) 議（SPIE Advanced Lithography 2014）在美國加州聖荷西會(hui) 展中心成功召開。大會(hui) 由美國國際光電學工程協會(hui) （SPIE）主辦，會(hui) 議期間，定向自組裝技術（DSA）、納米壓印技術、3D縮放工藝、 極紫外光刻技術（EUV）等方向的研究現狀及進展再次成為(wei) 研究領域的熱門話題。 

      本屆展會(hui) 內(nei) 容主要包括技術會(hui) 議、行業(ye) 研討、專(zhuan) 業(ye) 課程及的展覽會(hui) ，共有包括研究人員、開發商、供應商、風險投資商、企業(ye) 家在內(nei) 的2,360多名觀眾(zhong) 參展，比2013年增長約6%。近幾年持續增長的觀眾(zhong) 人數，也從(cong) 側(ce) 麵反映了半導體(ti) 行業(ye) 良好的發展趨勢。

      此外，會(hui) 議上還公布了三項SPIE光學大獎及榮譽，由前任國際光學工程學會(hui) 主席Bill Arnold 頒發。獎項/榮譽及獲得者分別是：

      Frits Zernike獎 [縮微平版印刷（Microlithography）領域]
      獲得者：Mordy Rothschild
             麻省理工學院林肯實驗室（MIT Lincoln Laboratory）
      獲獎內(nei) 容：半導體(ti) 光刻成像解決(jue) 方案的開發成果

      Harold E. Edgerton獎
      獲得者：Martin Richardson
             美國中佛羅裏達大學光學與(yu) 光子學學院
            （CREOL, The College of Optics and Photonics, University of Central Florida）
      獲獎內(nei) 容：高速物理現象領域的研究成果

      國際光學工程學會(hui) 會(hui) 士（SPIE Fellow）
      獲得者：Frank Abboud
             英特爾公司(Intel)

      據悉，2015年SPIE先進光刻技術會(hui) 議將於(yu) 2月22日—26日在美國加州聖荷西會(hui) 展中心舉(ju) 行。屆時，將由來自ASML公司的Mircea Dusa博士擔任研討會(hui) 共主席，聯合主席則由羅切斯特技術研究所的Bruce Smith教授擔任。所有會(hui) 議論文經批準錄用後，將收錄至美國SPIE國際會(hui) 議文集暨其數字圖書(shu) 館中。