光纖激光器在標刻領域的應用。光纖激光標刻係統占地空間很小，且不需進行後續的維護。帶有光束準直裝置的單模光纖和集成的光學聚焦係統提供了易於(yu) 集成長達7m距離的光束傳(chuan) 輸係統。
一套光纖激光打標係統可以由一個(ge) 或兩(liang) 個(ge) 功率為(wei) 25W的光纖激光器，一或兩(liang) 個(ge) 用來導光到工件上的掃描頭以及一台控製掃描頭的工業(ye) 電腦組成。這種設計比用一個(ge) 50W激光器分束到兩(liang) 個(ge) 掃描頭上的方式高出達4倍以上的效率。該係統最大打標範圍是175x295mm,光斑大小是35um，在全標刻範圍內(nei) 絕對定位精度是+/-100um。100mm工作距離時的聚焦光斑可小到15um。內(nei) 陷的手動變焦光學係統使得聚焦光斑可以根據需要擴大到150um而不需移動掃描頭。
材料處理的應用
光纖激光器的材料處理是基於(yu) 材料吸收激光能量的部位被加熱的熱處理過程。1um左右波長的激光光能很容易被金屬、塑料及陶瓷材料吸收。
　 用一個(ge) 25W光纖激光器以150mm/Sec的速度在不鏽鋼上雕刻字符和商標。薄的不鏽鋼箔能用15W的光纖激光器以750mm/sec的速度進行雕刻。陽極電鍍處理過的鋁片經25W激光功率雕刻後則顯現出很高的對比度。這裏，激光能量僅(jin) 僅(jin) 把鍍在上麵的有色薄塗層“吹”走而露出下麵空白的金屬。另外一個(ge) 精密的層移除應用是用高能量密度的激光標刻汽車發動板或電子鍵盤中的背光照明手柄和按鍵。這裏，高聚焦性能適合這類高精密的塗敷層的材料移除應用。
相比於(yu) 典型的調Q的燈泵或半導體(ti) 泵固體(ti) 激光係統的“非一致性”標刻，用連續光纖激光器製成的標刻係統被廣泛應用於(yu) 非“入侵”性的標刻中。這對於(yu) 在半導體(ti) 封裝上的膜層打標是十分重要的。調Q的固體(ti) 激光器都會(hui) 可能產(chan) 生“非一致性”的打標深度和寬度；而且，由於(yu) 傳(chuan) 統Q開關(guan) 激光器的高能量和短脈衝(chong) 缺點，標記效果可能發生變形，這些變形可能導致微斷裂，從(cong) 而危及工件的壽命和性能。用連續光纖激光器做的標記根本上不會(hui) 有變形。