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深度解讀

高速低功耗新型鈧銻碲相變存儲材料研究獲重要發現

Johnny 來源:上海微係統與(yu) 信息技術研究所2017-11-13 我要評論(0 )   

 集成電路產(chan) 業(ye) 是十三五國家戰略新興(xing) 產(chan) 業(ye) 。存儲(chu) 器是集成電路最重要的技術之一,是國家核心競爭(zheng) 力的重要體(ti) 現。我國作為(wei) 全球電子產(chan)

  集成電路產業是“十三五”國家戰略新興產業。存儲器是集成電路最重要的技術之一,是國家核心競爭力的重要體現。我國作為全球電子產品的製造基地,存儲器的自給能力還相對較弱。國外三星、英特爾等大型半導體公司對存儲器技術與產品壟斷,對我國信息產業發展與信息安全形成重大隱患。發展國內自主知識產權的新型半導體存儲技術迫在眉睫。

  中國科學院上海微係統與(yu) 信息技術研究所聯合中芯國際集成電路製造有限公司,選擇以嵌入式相變存儲(chu) 器(PCRAM)為(wei) 切入點,在國家重點研發計劃納米科技重點專(zhuan) 項、國家科技重大專(zhuan) 項“極大規模集成電路製造裝備及成套工藝”專(zhuan) 項、國家自然科學基金、中科院A類戰略性先導科技專(zhuan) 項、上海市領軍(jun) 人才、上海市科委等項目的資助下,經過十餘(yu) 年的研究,在存儲(chu) 材料篩選、嵌入式器件設計、PCRAM的基礎製造技術方麵取得係列重要科技進展。

  近期,上海微係統所宋誌棠科研團隊在新型相變存儲(chu) 材料方麵取得重大突破,創新提出一種高速相變材料的設計思路,即以減小非晶相變薄膜內(nei) 成核的隨機性來實現相變材料的高速晶化。通過第一性理論計算與(yu) 分子動力學模擬,從(cong) 眾(zhong) 多過渡族元素中,優(you) 選出鈧(Sc)作為(wei) 摻雜元素,設計發明了低功耗、長壽命、高穩定性的Sc-Sb-Te材料,Sc與(yu) Te形成的穩定八麵體(ti) ,成為(wei) 成核核心是實現高速、低功耗存儲(chu) 的主要原因,具有獨立自主知識產(chan) 權(國際專(zhuan) 利PCT/CN2016/096649,中國專(zhuan) 利201610486617.8)。利用0.13um CMOS工藝製備的Sc-Sb-Te基相變存儲(chu) 器件實現了700皮秒的高速可逆寫(xie) 擦操作,循環壽命大於(yu) 107次。相比傳(chuan) 統Ge-Sb-Te器件,其操作功耗降低了90%,且十年的數據保持力相當;通過進一步優(you) 化材料與(yu) 微縮器件尺寸,Sc-Sb-Te基PCRAM綜合性能將會(hui) 得到進一步提升。

  11月9日的《科學》(10.1126/science.aao3212 (2017))雜誌以Reducing the stochasticity of crystal nucleation to enable subnanosecond memory writing 為(wei) 題,在線發表了這一重要研究成果。

  Sc-Sb-Te相變存儲(chu) 材料的重大發現來自於(yu) 上海微係統所科研團隊在相變存儲(chu) 器方麵的長期科研工作積累。該科研團隊陸續開發出了我國第一款8Mb PCRAM試驗芯片,發現了比國際量產(chan) 的Ge-Sb-Te性能更好的Ti-Sb-Te自主新型相變存儲(chu) 材料,開發基於(yu) 0.13umCMOS工藝的打印機用嵌入式PCRAM產(chan) 品已獲得首個(ge) 1500萬(wan) 顆的訂單;自主研發的雙溝道隔離的4F2高密度二極管技術,自讀存儲(chu) 器已開始送樣,晶體(ti) 管密度達到國際先進水平;40nm節點PCRAM試驗芯片的單元成品率達99.99%以上,4Mb、64Mb不加修正的芯片在先進信息係統上實現試用。

  Sc-Sb-Te新型相變存儲(chu) 材料的重大發現,尤其是在高密度、高速存儲(chu) 器上應用驗證,對於(yu) 我國突破國外技術壁壘、開發自主知識產(chan) 權的存儲(chu) 器芯片具有重要的價(jia) 值,對我國的存儲(chu) 器跨越式發展、信息安全與(yu) 戰略需求具有重要意義(yi) 。

新型鈧銻碲(Sc-Sb-Te)相變存儲(chu) 器件0.7納秒高速寫(xie) 入操作演示及微觀結晶化機理

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