因為(wei) 每一個(ge) 聚焦鏡都有對應的焦深範圍，而采用偏離焦點的辦法會(hui) 容易導致大範圍標刻圖案時，邊緣處在焦深臨(lin) 界點或者超出焦深範圍，這樣就比較容易造成效果的不均勻性。因此，偏焦標刻的方法須考慮激光能量的問題。

激光輸出頭、固定夾具與(yu) 振鏡等未調好，導致激光經過振鏡頭時部分光斑被遮擋，經場鏡聚焦後在倍頻片上所呈現的光斑為(wei) 非圓形，這樣也有可能會(hui) 導致效果不均勻。　　

還有一種情況，即振鏡偏轉鏡片有損傷(shang) ，當激光光束通過鏡片損傷(shang) 區域時，無法很好地反射出去。因此，激光束經過鏡片損傷(shang) 區域與(yu) 鏡片無損傷(shang) 區域激光能量有不一致，最終作用在材料上的激光能量也不一樣，從(cong) 而使標刻效果不均勻。　

當激光通過光學鏡片（折射、反射）時，會(hui) 使鏡片發熱產(chan) 生細微的形變。這種形變會(hui) 使激光聚焦焦點上升，焦距變短。若機台固定，將距離調整到焦點處時，開激光一段時間後，會(hui) 因為(wei) 熱透鏡現象而使作用在材料上的激光能量密度發生變化，從(cong) 而導致標刻效果不均勻。　　

由於(yu) 二者不水平，會(hui) 導致激光光束通過場鏡後到達加工物件上的距離長短不一致，最終激光落在加工物件上的能量會(hui) 有不一致的能量密度，此時就會(hui) 在材料上表現出效果的不均勻。　

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材料對激光能量反應比較敏感。通常在同種材料下，激光能量達到材料破壞閾值是一定的。當材料鍍膜厚度不一，或有一些其他物理化學處理工藝不夠均勻時，同樣也會(hui) 造成激光標刻後的效果的不均勻。