中國微米納米技術學會(hui) 消息顯示，近日，中國科學院蘇州納米技術與(yu) 納米仿生研究所張子暘研究員與(yu) 國家納米中心劉前研究員合作，在Nano Letters上發表了研究論文，報道了一種他們(men) 開發的新型5 nm超高精度激光光刻加工方法。

據悉，研究團隊設計開發了一種新型三層堆疊薄膜結構。在無機鈦膜光刻膠上，采用雙激光束交疊技術，通過精確控製能量密度及步長，實現了1/55衍射極限的突破，達到了最小5 nm的特征線寬。

圖片來源：中國微米納米技術學會(hui)

此外，研究團隊利用這種超分辨的激光直寫(xie) 技術，實現了納米狹縫電極陣列結構的大規模製備。同時，該團隊還利用發展的新技術製備出了納米狹縫電極為(wei) 基本結構的多維度可調的電控納米SERS傳(chuan) 感器。

值得一提的是，研究團隊所開發的具有完全知識產(chan) 權的激光直寫(xie) 設備，利用了激光與(yu) 物質的非線性相互作用來提高加工分辨率，其有別於(yu) 傳(chuan) 統的縮短激光波長或增大數值孔徑的技術路徑；並打破了傳(chuan) 統激光直寫(xie) 技術中受體(ti) 材料為(wei) 有機光刻膠的限製，可使用多種受體(ti) 材料，極大地擴展了激光直寫(xie) 的應用場景。

目前，該工作得到了國家重點研究計劃項目、國家自然科學基金、Eu-FP7項目、中國博士後科學基金的支持。