如果真空紫外激光可以聚焦成一個(ge) 小束點，將可用於(yu) 研究介觀材料和結構，並使製造納米物體(ti) 具有更加的精度。

　　為(wei) 了實現這一目標，中國科學家發明了一種177納米的VUV激光係統，可以在長焦距處獲得亞(ya) 微米焦點。該係統可以重新配置用於(yu) 低成本的角度分辨光電發射光譜，並可能推動凝聚態物理研究。

　　在《光科學與(yu) 應用》(LightScience&Applications)發表的一項研究成果顯示，研究人員利用無球像差的帶板開發了一種177nmVUV激光掃描光電發射顯微鏡係統，該係統在長焦距(——45mm)下具有<1μm的焦斑。

　　基於(yu) 這種顯微鏡，他們(men) 還建立了一個(ge) 離軸熒光檢測平台，在揭示材料的細微特征方麵表現出優(you) 於(yu) 傳(chuan) 統激光係統的能力。

　　與(yu) 目前用於(yu) ARPES的具有空間分辨率的DUV激光源相比，177nmVUV激光源可以幫助ARPES測量覆蓋更大的動量空間，具有更好的能量分辨率。

　　該VUV激光係統具有超長焦距(——45mm)、亞(ya) 微米空間分辨率(——760nm)、超高能量分辨率(——0.3meV)和超高亮度(——355MWm-2)。可直接應用於(yu) 光電發射電子顯微鏡(PEEM)、角度分辨光電子能譜儀(yi) (ARPES)、深紫外激光拉曼能譜儀(yi) 等科研儀(yi) 器。

　　目前，該係統已與(yu) 上海理工大學的ARPES連接，揭示了各種新型量子材料的精細能帶特征，如準一維拓撲超導體(ti) TaSe3、磁性拓撲絕緣體(ti) (MnBi2Te4)(Bi2Te3)m族等。