在曝光過程中，入射到掩模上的單脈衝(chong) 能量密度可以通過調節準分子激光器的放大器或諧振腔的電壓來控製。由於(yu) 在振幅調製準分子激光的照射下，摻氫增敏的商用摻鍺光纖纖芯折射率會(hui) 發生周期性變化。傳(chuan) 播於(yu) 其纖芯內(nei) 部的光將在特定波長附近與(yu) 包層模耦合，在進一步的傳(chuan) 輸中損耗。光纖Bragg光柵的生長特性用寬帶光源和光譜分析儀(yi) 觀測透射譜的損耗峰進行實時監測。選用機械電子工業(ye) 部第十三研究所研製的GXF001型摻鉺光纖放大器（EDFA）在0dBm輸入時ASE發射譜作為(wei) 寬帶光源。波長範圍1530～1560nm，飽和輸出功率＞15dBm，輸入光功率-4～+7dBm，光功率輸出穩定度＜+/-0.1dB。噪聲係數＜6（P_in=0dBm，P_out=16 dBm,@1550nm)。增益平坦度±0.5dB/nm（P_in＝0dBm）。當泵浦功率40mW時，輸出光功率4.95mW。並采用Advantest Q8381型光纖光譜分析儀(yi) ，工作波長範圍0.6～1.75nm,分辨率0.1nm。隨時觀測並記錄紫外寫(xie) 入過程中光譜的變化，找出變化規律，得到形成光纖Bragg光柵的最佳條件。可以通過觀測光纖後透射光總強度來初步判定光纖Bragg光柵的形成情況，並確認光纖光柵形成的最佳時機。
　　由於(yu) 纖芯折射率的改變量與(yu) 照射能量在一定範圍內(nei) 成線性關(guan) 係。因此，通過延長曝光時間可以在一定程度上彌補吸收效率的不足。摸索最佳光纖增敏條件以及曝光強度和時間，保證光纖與(yu) 光場幹涉條紋嚴(yan) 格垂直。同時，減小曝光中的微小震動將有助於(yu) 提高其反射率，降低反射半寬。
　　利用光纖光譜分析儀(yi) 測試光纖Bragg光柵的透射光譜。可見光纖Bragg光柵已經形成，並且發生了纖芯與(yu) 包層之間的明顯能量傳(chuan) 遞。光纖Bragg光柵的反射率隨照射時間的增加而增大。達到一定值後，在一段時間內(nei) 維持不變。隨後再次隨照射時間的增加而增加，達到最大值後，反射率開始下降。由公式可推算出耦合係數k＝3.6×10²m^-1，折射率的實際變化量約為(wei) 2×10^-4。
　　根據應用項目的要求，所研製的光纖Bragg光柵結果如下：
　　1.用作摻鉺光纖激光器(EDFL)諧振腔的輸出選頻器，利用摻鉺光纖熒光譜的較平坦波段1540nm～1560nm作為(wei) 發射譜，如圖4所示。光纖Bragg光柵透射譜如圖5(a)所示。光纖Bragg光柵峰值透射率為(wei) -5dB(反射率68%)，其中心波長1560.35nm，3dB帶寬為(wei) 0.13nm。在大於(yu) 1560nm波段，光纖Bragg光柵透射譜基線呈下降趨勢。這主要是由於(yu) 熒光譜發射強度在大於(yu) 1560nm波段下降所造成的。

　　2.用作密集波分複用的光纖Bragg光柵濾波器，其透射譜如圖5(b)(中心波長1559.84nm，帶寬0.399nm)和圖5(c)(中心波長1558.6nm, 帶寬為(wei) 0.285nm)所示。光纖Bragg光柵峰值透射率均<-20dB(反射率>99%)。

　　3.用作EDFL諧振腔的全反射器，其透射譜如圖5(d)所示。光纖Bragg光柵峰值透射率<-20dB(反射率>99%)，中心波長1560.65nm，帶寬0.6nm。邊瓣得到充分抑製，且重複性良好。