聖地亞(ya) 哥，2018年8月27日電 /美通社/ - 用於(yu) 半導體(ti) 製造的準分子激光器的領先製造商Cymer今天宣布首次客戶安裝其XLR 860ix光源，預計將用於(yu) 芯片生產(chan) 在高級邏輯和內(nei) 存節點。

XLR 860ix是一款基於(yu) 氬氟化物準分子激光器的深紫外（DUV）光源。第一個(ge) 客戶安裝在本月完成，XLR 860ix與(yu) ASML的最新光刻係統TWINSCAN NXT：2000i配對，該光源係統今年早些時候獲得了資格。

“XLR 860ix通過改進高速控製和重新設計的板載帶寬測量，與(yu) 前一代產(chan) 品相比，將帶寬變化減少了兩(liang) 倍。這是一項重要成就，因為(wei) 這些變化會(hui) 導致關(guan) 鍵尺寸誤差（CD）均勻性反過來影響圖像質量和最終製造產(chan) 量。我們(men) 的客戶使用XLR 860ix的早期版本驗證了光譜穩定性的改善，這使我們(men) 相信這種光源將會(hui) 有助於(yu) 提高用於(yu) 生產(chan) 先進集成電路的CD均勻性，“Cymer產(chan) 品營銷副總裁Patrick O'Keeffe說。

在XLR860ix全麵發布之前，Cymer通過升級現有光源，為(wei) 早期訪問計劃的客戶提供了關(guan) 鍵技術。已經完成了四次這樣的升級，計劃在今年年底之前升級另外七個(ge) 來源。共有七位客戶參與(yu) 了早期訪問計劃。為(wei) 了滿足客戶的強烈需求，Cymer已迅速將其生產(chan) 能力轉移到XLR 860ix型號，用於(yu) 所有未來的ArF沉浸式發貨。

“除了早期訪問計劃，我們(men) 還提供了XLR 860ix的一項關(guan) 鍵新技術，作為(wei) 以前光源模型的升級。這種升級延長了光學器件和腔室的使用壽命，增加了時間間隔。維修間隔為(wei) 33％，從(cong) 而使我們(men) 的客戶能夠更好地利用他們(men) 的光刻係統，每年為(wei) 每個(ge) 工具提供數千個(ge) 額外的晶圓。我們(men) 的客戶積極利用這一升級，在過去一年內(nei) 完成了400多次升級。大多數升級後的係統超出了目標服務間隔，“O'Keeffe說。