11月，中科院上海光學精密機械研究所周常河研究員課題組成功研製出多路激光直寫(xie) 裝置。該裝置采用405nm的藍光激光光源，尼康0.9數值孔徑的透鏡，以及自動聚焦係統，實現了25路高精度並行激光直寫(xie) ，刻寫(xie) 光斑的線寬小於(yu) 600nm。相比於(yu) 傳(chuan) 統激光直寫(xie) 係統，該裝置在刻寫(xie) 速度和效率方麵有了很大的提高，幾十倍地縮短了激光直寫(xie) 時間，可以快速製作大尺寸、高精度衍射光學元件。

激光束直寫(xie) 技術是一種無需掩膜的光刻技術，基本工作原理是由計算機控製高精度激光束或樣品掃描，在光刻膠上或光敏材料上刻寫(xie) 出掩膜圖形。傳(chuan) 統的激光直寫(xie) 裝置由於(yu) 受單路激光刻寫(xie) 的限製，效率低，時間長，隻能應用於(yu) 中、小尺寸光學器件的生產(chan) 和製備。該裝置的成功研製，有可能為(wei) 中國的半導體(ti) 製造及大尺寸微納光學加工領域提供一種高性能、低成本的技術手段，同時，也將推動我國在納米光刻，微納光學製造等領域的進步，對於(yu) 研製我國大科學工程、裝置以及天文、航天、航空、印刷等行業(ye) 所需要的大尺寸光學元件，起到積極的推動作用。