中科院上海光學緊密機器研究所周常河研究員課題構成功研製出多路激光直寫(xie) 裝配。該裝配采納405nm的藍光激光光源，僧康0.9數值孔徑的透鏡，和主動聚焦體(ti) 係，完成了25路高精度並行激光直寫(xie) ，刻寫(xie) 光斑的線寬小於(yu) 600nm。比擬於(yu) 傳(chuan) 統激光直寫(xie) 體(ti) 係，該裝配在刻寫(xie) 速率和服從(cong) 方麵有了很大的進步，幾十倍地收縮了激光直寫(xie) 時間，可以疾速建造大尺寸、高精度衍射光學元件。

　　激光束直寫(xie) 技能是一種無需掩膜的光刻技能，根本事情道理是由計較機節製高精度激光束或樣品掃描，在光刻膠上或光敏質料上刻寫(xie) 出掩膜圖形。傳(chuan) 統的激光直寫(xie) 裝配因為(wei) 受單路激光刻寫(xie) 的限定，服從(cong) 低，時間長，隻能利用於(yu) 中、小尺寸光學器件的出產(chan) 和製備。該裝配的樂(le) 成研製，有大概為(wei) 中國的半導體(ti) 係體(ti) 例造及大尺寸微納光學加工範疇供給一種高機能、低本錢的技能手段，同時，也將鞭策我國在納米光刻，微納光學製作等範疇的進步，對付研製我國大迷信工程、裝配和地理、航天、航空、印刷等行業(ye) 所必要的大尺寸光學元件，起到踴躍的鞭策感化。