薄膜測量係統是基於(yu) 白光幹涉的原理來確定光學薄膜的厚度。白光幹涉圖樣通過數學函數被計算出薄膜厚度。對於(yu) 單層膜來說，如果已知薄膜介質的n和k值就可以計算出它的物理厚度。 AvaSoft-Thinfilm應用軟件內(nei) 包含有一個(ge) 大部分常用材料和膜層n和k值的內(nei) 置數據庫。 AvaSoft-Thinfilm係統可以測量的膜層厚度從(cong) 10nm到50µm，分辨率可達1nm。 薄膜測量廣泛應用於(yu) 半導體(ti) 晶片生產(chan) 工業(ye) ，此時需要監控等離子刻蝕和沉積加工過程。還可以用於(yu) 其它需要測量在金屬和玻璃基底上鍍製透明膜層的領域。其他領域中，金屬表麵的透明塗層和玻璃襯底也需要嚴(yan) 格測量。 AvaSoft-Thinfilm應用軟件能夠實時監控膜層厚度，並且可以與(yu) 其他AvaSoft應用軟件如XLS輸出到Excel軟件和過程監控軟件一起使用。
薄膜測量的典型裝置如圖所示
薄膜測量常用配置

光譜儀(yi)	AvaSpec-2048光譜儀(yi) ，UA光柵（200-1100nm），UV鍍膜，DCL-UV/VIS靈敏度增強透鏡，OSC-200-1100消二階衍射效應鍍膜
膜層厚度	10nm到50µm的膜層，1nm分辨率
軟件	AvaSoft-Thinfilm應用軟件
光源	AvaLight-DHc緊湊型氘-鹵素光源
光纖	1根FCR-7UV200-2-ME反射光纖探頭
附件	THINFILM-STAGE支架，用於(yu) 固定反射光纖探頭