現代工業(ye) 中,電鍍技術很多,其中激光電鍍是新興(xing) 的高能束流電鍍技術,它對微電子器件和大規模集成電路的生產(chan) 和修補具有重大意義(yi) 。
目前,雖然激光電鍍原理、激光消融、等離子激光沉積和激光噴射等方麵還在研究之中,但其技術已在實用。
當一種連續激光或衝(chong) 激光照射在電鍍池中的陰極表麵時,不僅(jin) 能大大提高金屬的沉積速度,而且可用計算機控製激光束的運動軌跡而得到預期的複雜幾何圖形的無屏蔽鍍層。
20世紀80年代又研究出一種激光噴射強化電鍍的新技術,將激光強化電鍍技術與(yu) 電鍍液噴射結合起來,使激光與(yu) 鍍液同步射向陰極表麵,其傳(chuan) 質速度大大超過激光照射所引起的微觀攪拌的傳(chuan) 質速度,從(cong) 而達到很高沉積速度。
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