但就是這樣單價(jia) 超1億(yi) 美元的昂貴設備，他們(men) 卻不賣給中國！

網友@靚仔集團董事長說：全球就隻有他家能生產(chan) 的出來，沒有人做的出來。而且還不賣給中國。中國出多少錢都不賣。毛利1000%都可以。這個(ge) 是在芯片裏麵畫電路的，都是幾納米，大概是頭發絲(si) 的萬(wan) 分之一大小電路，你說牛B不。

到底是什麽(me) 光刻設備這麽(me) 牛，為(wei) 什麽(me) 又不能賣給中國呢？金粉們(men) 別急，咱們(men) 慢慢看：

對於(yu) 普通人來說，光刻機或許是一個(ge) 陌生的名詞，但它卻是製造大規模集成電路的核心裝備，每顆芯片誕生之初，都要經過光刻技術的鍛造。

簡單地說，光刻機就是把工程師的設計‘印入’基底材料，其核心技術長期被荷蘭(lan) 、日本、德國等把持。

光刻機是芯片製造的核心設備之一，按照用途可以分為(wei) 好幾種：有用於(yu) 生產(chan) 芯片的光刻機；有用於(yu) 封裝的光刻機；還有用於(yu) LED製造領域的投影光刻機。用於(yu) 生產(chan) 芯片的光刻機是中國在半導體(ti) 設備製造上最大的短板，國內(nei) 晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。

目前，光刻機領域的龍頭老大是荷蘭(lan) ASML，並已經占據了高達80%的市場份額，壟斷了高端光刻機市場--最先進的EUV光刻機售價(jia) 曾高達1億(yi) 美元一台，且全球僅(jin) 僅(jin) ASML能夠生產(chan) 。Intel、台積電、三星都是它的股東(dong) ，重金供養(yang) ASML，並且有技術人員駐廠，Intel、三星的14nm光刻機都是買(mai) 自ASML，格羅方德、聯電以及中芯國際等晶圓廠的光刻機主要也是來自ASML。

阿斯麥公司ASML Holding NV創立於(yu) 1984年，是從(cong) 飛利浦獨立出來的一個(ge) 半導體(ti) 設備製造商。前稱ASM Lithography Holding N.V.，於(yu) 2001年改為(wei) 現用名，總部位於(yu) 荷蘭(lan) 費爾德霍芬，全職雇員12,168人，是一家半導體(ti) 設備設計、製造及銷售公司。

阿斯麥公司為(wei) 半導體(ti) 生產(chan) 商提供光刻機及相關(guan) 服務，TWINSCAN係列是目前世界上精度最高，生產(chan) 效率最高，應用最為(wei) 廣泛的高端光刻機型。

目前全球絕大多數半導體(ti) 生產(chan) 廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例如英特爾，三星，海力士，台積電，聯電，格芯及其它半導體(ti) 廠。隨著摩爾定律的發展，芯片走向了7nm以下，這就需要更高級的EUV光刻係統，全球隻有ASML的NXE:3400B能夠滿足需求。

未來，隻有他的EUV光刻機能夠幫助芯片接續微縮，因此這些設備縱使賣到上億(yi) 歐元，都能被客戶所接受。

作為(wei) 集成電路製造過程中最核心的設備，光刻機至關(guan) 重要，芯片廠商想要提升工藝製程，沒有它萬(wan) 萬(wan) 不行，中國半導體(ti) 工藝為(wei) 啥提升不上去，光刻機被禁售是一個(ge) 主要因素。

這麽(me) 昂貴的設備，為(wei) 什麽(me) 不賣給中國呢？這就要提到《瓦森納協定》。

《瓦森納協定》又稱瓦森納安排機製，全稱為(wei) 《關(guan) 於(yu) 常規武器和兩(liang) 用物品及技術出口控製的瓦森納安排》，目前共有包括美國、日本、英國、俄羅斯等40個(ge) 成員國（注：沒有中國）。盡管“瓦森納安排”規定成員國自行決(jue) 定是否發放敏感產(chan) 品和技術的出口許可證，並在自願基礎上向“安排”其他成員國通報有關(guan) 信息。但“安排”實際上完全受美國控製。當“瓦森納安排”某一國家擬向中國出口某項高技術時，美國甚至直接出麵幹涉，如捷克擬向中國出口“無源雷達設備”時，美便向捷克施加壓力，迫使捷克停止這項交易。

不過據說這個(ge) 協定對中國也不是完全禁售，隻是禁售最新的幾代設備。瓦森納協議每過幾年都會(hui) 更新禁售列表，比如2010年90nm以下的設備都是不允許銷售的，到2015年就改成65nm以下的了。

光刻機被業(ye) 界譽為(wei) 集成電路產(chan) 業(ye) 皇冠上的明珠，研發的技術門檻和資金門檻非常高。也正是因此，能生產(chan) 高端光刻機的廠商非常少，到最先進的14nm光刻機就隻剩下ASML，日本佳能和尼康已經基本放棄第六代EUV光刻機的研發。

相比之下，國內(nei) 光刻機廠商則顯得非常寒酸，處於(yu) 技術領先的上海微電子裝備有限公司已量產(chan) 的光刻機中性能最好的是90nm光刻機，製程上的差距就很大……國內(nei) 晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。

這不僅(jin) 使國內(nei) 晶圓廠要耗費巨資購買(mai) 設備，對產(chan) 業(ye) 發展和自主技術的成長也帶來很大不利影響--ASML在向國內(nei) 晶圓廠出售光刻機時有保留條款，那就是禁止用ASML出售給國內(nei) 的光刻機給國內(nei) 自主CPU做代工--隻要中芯國際、華力微等晶圓廠采購的ASML光刻機，雖然不影響給ARM芯片做代工，但卻不可能給龍芯、申威等自主CPU做代工、商業(ye) 化量產(chan) 。即便是用於(yu) 科研和國防領域的小批量生產(chan) ，也存在一定風險--采用陶瓷加固封裝、專(zhuan) 供軍(jun) 用的龍芯3A1500和在黨(dang) 政軍(jun) 市場使用的龍芯3A2000，隻能是小批量生產(chan) ，而且在宣傳(chuan) 上也隻能含糊其辭的說明是境內(nei) 流片……這很大程度上影響了自主技術和中國集成電路產(chan) 業(ye) 的發展。

2016年，清華大學召開了“光刻機雙工件台係統樣機研發”項目驗收會(hui) ，專(zhuan) 家組對項目任務完成情況予以高度評價(jia) ，並一致同意該項目通過驗收。

工件台係統是光刻機的重要子係統，工件台係統的運行速度、加速度、係統穩定性和係統的定位建立時間對光刻機的生產(chan) 精度和效率起著至關(guan) 重要的作用。本次“光刻機雙工件台係統樣機研發”項目驗收，標誌中國在雙工件台係統上取得技術突破，但這僅(jin) 僅(jin) 是實現光刻機國產(chan) 化萬(wan) 裏長征的一部分，距離打破ASML的技術壟斷還有很長的路要走。

日前，“極大規模集成電路製造裝備及成套工藝”國家科技重大專(zhuan) 項實施管理辦公室組織專(zhuan) 家，在中國科學院長春光學精密機械與(yu) 物理研究所召開了“極紫外光刻關(guan) 鍵技術研究”項目驗收會(hui) 。評審專(zhuan) 家組充分肯定了項目取得的一係列成果，一致同意項目通過驗收，認為(wei) 該項目的順利實施將我國極紫外光刻技術研發向前推進了重要一步。

極紫外光刻光學技術代表了當前應用光學發展最高水平，作為(wei) 前瞻性EUV光刻關(guan) 鍵技術研究，項目指標要求高，技術難度大、瓶頸多，創新性高，同時國外技術封鎖嚴(yan) 重。

因此我們(men) 看到，中國也是取得了很大的進步的。但是中國想要趕上，絕不是一朝一夕的事，需要各類基礎領域紮實的人才，這也是最難的。