在台積電和三星集團在因美國強製要求在45天內(nei) 交出商業(ye) 機密數據而憂心的時候，光刻機巨頭ASML 發布了其2021年創紀錄的第三季度業(ye) 績：

第三季度淨銷售額為(wei) 52億(yi) 歐元（相當於(yu) 人民幣近390億(yi) 元 ），毛利率為(wei) 51．7％ ；淨利潤為(wei) 17億(yi) 歐元；第三季度淨預訂量為(wei) 62億(yi) ，其中包括22億(yi) 歐元（相當於(yu) 人民幣164億(yi) 元）的 EUV 銷售額。

ASML稱，EUV光刻機出貨量和營收皆創下新高，其TWINSCAN NXE：3600DEUV 光刻機設備在用戶現場實現了每小時160個(ge) 晶片的記錄。

同時，ASML預計2021年第四季度淨銷售額在49億(yi) 歐元至52億(yi) 歐元之間，毛利率在51％ 至52％ 之間。這意味著2021年的銷售額將接近190億(yi) 歐元。

圖片來源：ASML

這種業(ye) 績增長的主要原因來源於(yu) 對極紫外（EUV）光刻設備的需求持續增長，在這方麵，ASML作為(wei) 光刻機巨頭，其巨額曆史投資已使其壟斷了高度複雜的晶圓製模係統市場。芯片製造商競相擴大產(chan) 能以緩解全球電子元件短缺，需求激增意味著ASML今年迄今的收入超過136億(yi) 歐元。在2021年還有一個(ge) 季度剩餘(yu) 時間的前提下，這僅(jin) 略低於(yu) 該公司創紀錄的2020年140億(yi) 歐元的銷售額。

ASML首席執行官Peter Wennink對最新季度的情況表示：“需求仍然很高。正在進行的數字轉型和目前芯片的短缺，促使我們(men) 需要提高我們(men) 的能力，以滿足當前和預期的未來對內(nei) 存和所有邏輯節點的需求。”

盡管對半導體(ti) 器件的真實需求水平仍存在一些疑問，但Wennink指出，ASML的總積壓量接近200億(yi) 歐元（其中一半以上用於(yu) EUV工具），作為(wei) 當前市場拉動的證據。到2023年，EUV的出貨量將達到這一總量。隨著采用新工藝的存儲(chu) 器芯片製造商的需求加快，該公司預計明年將推出55種高通量EUV工具。

滿足其EUV和深UV（DUV）光刻工具裝運目標將是一項挑戰，然而，ASML本身受到全球設備短缺的影響，以及在增加產(chan) 能和在Veldhoven總部新建物流中心方麵的一些初期問題。

Wennink還指出，EUV服務升級將成為(wei) 越來越大的收入貢獻，盡管這反過來取決(jue) 於(yu) 客戶在如此高的需求期間是否願意允許必要的工具停機。

對於(yu) 未來，首席執行官說，整個(ge) 半導體(ti) 行業(ye) 需要在2025年之前增加大量的新產(chan) 能。屆時，ASML預計將提供更多的EUV和DUV工具，以及第一個(ge) 高吞吐量EUV設備，以提供高NA光學器件的額外功能縮減能力。

ASML還透露，它已同意將去年收購的Berliner Glas部分業(ye) 務出售給德國光電子巨頭Jenoptik。

Jenoptik計劃收購其旗下的berlin Glas Medical和瑞士光學（SwissOptic）。berlin Glas Medical為(wei) 包括內(nei) 窺鏡、牙科和機器人手術在內(nei) 的應用提供高精度、定製的光學元件，而SwissOptic專(zhuan) 門從(cong) 事開發和製造用於(yu) 多個(ge) 不同市場部門的光學元件和組件。該交易包括瑞士光學總部位於(yu) 武漢的中國子公司，預計將為(wei) Jenoptik增加約1．3億(yi) 歐元的年收入。

本內(nei) 容編譯整理自ASML、optics.org