複旦大學光科學與工程係吳翔教授、陸明教授和光源與照明工程係張樹宇副教授合作團隊，基於所研發的高增益矽納米晶薄膜，成功研製出世界上首個全矽激光器。這一成果近期在Science Bulletin以快報形式報道。陸明教授的博士研究生王東辰和張弛為並列第一作者，吳翔、陸明和張樹宇為共同通訊作者。
（a）DFB全矽激光器的光泵浦和發光示意圖；插圖：DFB激光器件的實物照片。（b）樣品的PL譜隨泵浦功率的變化；背景：DFB結構的橫截麵SEM圖像。
集成矽光電子結合了當今兩大支柱產業—微電子產業和光電子產業—的精華，預期將在通信、傳感、照明、顯示、成像、檢測等眾多領域帶來新的技術革命。
矽激光器是實現集成矽光電子的關鍵。由於矽的間接帶隙結構特性，目前，矽的光增益較之通常的III－V族激光材料，仍有1－2個數量級的差距。為避開這個瓶頸，國際上將成熟的III－V族激光器製備在矽基片上，成為一種混合的矽基激光器。而以矽自身作為增益介質的全矽激光器可以更好地匹配現有矽工藝，大幅提升器件的可靠性，其研製既是科學技術上的挑戰，也是集成矽光電子所必需。
為了大幅增強矽的光增益，複旦大學吳翔教授、陸明教授和張樹宇副教授合作團隊，首先借鑒並發展了一種高密度矽納米晶薄膜生長技術，由此顯著提高了矽發光層的發光強度；之後，為克服通常氫鈍化方法無法充分飽和懸掛鍵缺陷這一問題，他們發展了一種新型的高壓低溫氫鈍化方法，使得矽發光層的光增益一舉達到通常III－V族激光材料（如GaAs、InP等）的水平；在此基礎上，他們設計和製備了相應的分布反饋式（DFB）諧振腔，最終成功獲得光泵浦DFB型全矽激光器。光泵浦全矽激光器的研製成功，也為下一步研製電泵浦全矽激光器提供了參考依據。
實驗發現，隨著高壓低溫氫鈍化的進行，矽發光層的光增益持續增強，最終達到GaAs、InP的水平。實驗中還觀察到了滿足激光產生條件的所有判據：閾值效應、譜線大幅收窄、偏振效應以及定向發射。激射峰值為770nm波長。之後他們又重複製備了四個相同結構的激光器。由於各發光層的有效折射率略有差異，所得到的四個激射峰值波長分布在760－770nm範圍，半峰寬（FWHM）由激射前的約120nm縮小到激射後的7nm。
該項目是不同學科背景的老師通力合作的結果。本項目得到了國家自然科學基金（No． 51472051， 61275178， 61378080， 61705042）和上海市揚帆計劃（16YF1400700）等提供支持。
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