
係統設備主要用於(yu) 太陽能鈣鈦礦電池激光刻蝕,適用於(yu) ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、金、銀、碳粉等導電金屬、氧化物材料激光刻蝕,同時可針對玻璃基底激光劃線。設備標準尺寸1200*600mm,同時預留出小麵積300*300mm內(nei) 的小幅麵加工需求。設備采用固體(ti) 激光器,激光波長1030nm,適合對導電玻璃與(yu) 鍍層進行精細刻線;采用自主研發的控製軟件、直接導入CAD 數據進行激光刻蝕,操作簡單,方便快捷;通過軟件實時調節振鏡與(yu) 直線電機、電動升降工作台的設計,加上真空吸附托盤裝置,能有效地解決(jue) 激光刻蝕機在加工運行中的平穩性;采用獨特除塵係統設計,能保證玻璃與(yu) 工作平麵的清潔,保證激光刻蝕過程中無殘留。設備集數控技術、激光技術、軟件技術等光機電高技術於(yu) 一體(ti) ,具有高靈活性、高精度、高速度等先進製造技術的特征。可大範圍內(nei) 進行各種圖案,各種尺寸的精密、高速刻蝕,並且能夠保證很高的產(chan) 能,是一個(ge) 可靠、穩定和具有高性能價(jia) 格比的產(chan) 品。
適用材料
玻璃基底上薄膜激光刻蝕,觸摸屏、光伏太陽能電池、電至色玻璃、其它顯示屏。可用於(yu) 導電銀漿、ITO、FTO、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、碳粉、金、銀等導電金屬、氧化物材料處理。同時,可加工白玻璃激光劃線應用,最小線寬小於(yu) 20微米,深度5-50微米可調。
注:以上資料由武漢元祿光電提供
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