導電玻璃是指透明導電氧化物,如氧化銦錫ITO、摻雜氟的SnO2 FTO、氧化鋅ZnO、氧化鎳NiO、納米銀等,部分為(wei) 銅、鋁、金等材料,以玻璃為(wei) 基材,通過磁控濺射等方式將導電材料生長在玻璃上的產(chan) 品,常用於(yu) 觸摸屏、光伏太陽能電池、戶外顯示、航空航天等諸多領域當中。
導電玻璃在產(chan) 品成型之前需要對其進行刻蝕加工,形成電路圖,光伏行業(ye) 主要是劃線,做成一個(ge) 個(ge) 小單元的電極,增大電壓,無論哪一個(ge) 應用領域,都需要對其進行刻蝕加工。目前刻蝕工藝主要分為(wei) 激光刻蝕、等離子刻蝕、化學刻蝕以及機械劃線等幾種方式,武漢元祿光電為(wei) 大家介紹幾種刻蝕的方法、優(you) 缺點以及重點介紹激光刻蝕機的選型。
化學刻蝕:優(you) 點是加工速度快,一次成型,適合大麵積加工;缺點是添加劑具有毒性,並且具有一定的汙染性,操作流程相對複雜,對掩膜版要求高,不具備超精密微納結構的加工能力。
等離子刻蝕:超細微精密刻蝕,刻蝕線寬達到納米級,精度高;缺點是成本高,對使用環境等諸多要素都有極高要求。
機械劃線:主要優(you) 勢是成本低廉;缺點也顯而易見,對基材的損傷(shang) 、線寬控製、精度控製、效果控製都不如其他加工,早期常應用於(yu) 光伏太陽能劃線。
激光刻蝕:分為(wei) 幹法刻蝕和黃光曝光兩(liang) 種,黃光曝光的優(you) 勢在於(yu) 一次成型,精度高、刻蝕效果好、精細,缺點是成本相對較高,具備汙染性。幹法刻蝕是指激光直接入射在材料表麵無需任何添加劑,通過高能量的光束汽化材料,形成線路或斷路,相比較於(yu) 其他幾種工藝,在導電玻璃行業(ye) 中可謂星光熠熠,處處優(you) 勢明顯,也是目前整個(ge) 行業(ye) 領域內(nei) 最主流的機器。
激光刻蝕機
激光刻蝕機的主要優(you) 點是操作簡便,導入CAD或Gerber文件,通過振鏡偏轉、配合XY軸移動形成大麵積的刻蝕成型,無耗材、無汙染,刻蝕幹淨,最小線寬可達到亞(ya) 納米級別,目前武漢元祿光電普通振鏡掃描方式,導電ITO玻璃最小線寬在3微米,而在實驗室內(nei) 最小可達700nm線寬,特別適合於(yu) 導電玻璃微納激光刻蝕。
激光刻蝕機用於(yu) 導電玻璃行業(ye) 中主要激光波段為(wei) 1064/532/355nm納秒、皮秒激光刻蝕機以及1030/515nm/355nm波段的飛秒激光刻蝕機,根據不同的應用場景需求,配置不同的激光器,並且會(hui) 根據實際需求選擇不同的光學器件,如掃描幅麵、擴束倍數、加工麵積等條件。
一般來說,激光刻蝕機的參考選型主要參考因素是導電玻璃的材料、幅寬、線寬、線間距要求,至於(yu) 說材料的厚度一般都是在幾百微米範圍內(nei) ,有的甚至隻有幾個(ge) 納米,對於(yu) 激光刻蝕機來說不難加工,主要還是看熱影響範圍區域,加工後的線寬、線間距以及線性直線度、加工精度以及誤差等影響。
因此確定激光刻蝕機的選擇需要明確以上幾點,根據需求推薦對應的機器類型,一般來說紅外1064納秒激光刻蝕機主要適用於(yu) 20微米以上線寬的加工要求,飛秒激光刻蝕機主要適用於(yu) 多層材料的導電玻璃激光刻蝕,如特殊需求仍需以實驗試樣為(wei) 準。
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