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深度解讀

中美研究員合作基於納米疊層設計紫外激光反射薄膜

星之球科技 來源:《光:科學與(yu) 應用》2020-03-12 我要評論(0 )   

近日,中國科學院上海光機所邵建達研究員、朱美萍研究員與(yu) 美國新墨西哥大學Wolfgang Rudolph教授等人合作基於(yu) 可調諧納米疊層的思

近日,中國科學院上海光機所邵建達研究員、朱美萍研究員與(yu) 美國新墨西哥大學Wolfgang Rudolph教授等人合作基於(yu) 可調諧納米疊層的思想設計紫外激光反射薄膜,實現了具有高反射率、寬帶寬和高激光損傷(shang) 閾值的355nm激光反射薄膜。該設計思想為(wei) 提高紫外激光薄膜性能開辟了新的途徑,為(wei) 支撐高功率激光領域的進一步發展奠定了基礎。相關(guan) 成果於(yu) 近期以“Nanolaminate-based design for UV laser mirror coating”在線發表在國際頂尖光學期刊《Light: Science & Applications》上。論文第一作者是中國科學院上海光機所朱美萍研究員,共同通訊作者為(wei) 朱美萍研究員、Wolfgang Rudolph教授和邵建達研究員。


激光裝置輸出功率的不斷提升對激光薄膜的要求不斷提高。理想的紫外激光反射薄膜需要同時具有高的反射率、寬的反射帶寬和高的激光損傷(shang) 閾值。然而,這些要求往往很難同時滿足。這是由於(yu) 高的反射率和寬的反射帶寬需要高折射率的材料,然而較高折射率的材料往往具有較小的光學帶隙,因此具有較低的激光損傷(shang) 閾值。過去通常采用組合膜係設計,即在具有高反射率的膜堆上沉積具有高激光損傷(shang) 閾值的膜堆,來實現紫外激光反射薄膜。組合膜係的設計需要對反射率、帶寬和激光損傷(shang) 閾值等相互製約的性能要求進行權衡折衷。


在這項工作中,研究團隊展示了一種基於(yu) 共蒸界麵納米疊層的“集高反射率和高激光損傷(shang) 閾值於(yu) 一體(ti) ”的反射薄膜設計方法。在這種設計方法中,采用兩(liang) 種材料交替的納米疊層作為(wei) 一層具有高折射率和大光學帶隙的等效層,取代傳(chuan) 統組合膜係設計中的高折射率膜層。在保持總光學厚度不變的前提下,通過改變納米疊層中兩(liang) 種材料的厚度比例,可以調節納米疊層薄膜的(平均)折射率和光學帶隙。這使得發展出同時具備高反射率和高激光損傷(shang) 閾值的紫外反射薄膜成為(wei) 可能。隨後,研究團隊使用電子束沉積技術,在實驗上證明了基於(yu) Al2O3-HfO2納米疊層的反射薄膜在紫外波段具有更高的反射率、帶寬和激光損傷(shang) 閾值,適用於(yu) 紫外激光領域。與(yu) 傳(chuan) 統組合膜係設計相比,該納米疊層設計的紫外激光反射薄膜(兩(liang) 者總膜層厚度接近)具有若幹優(you) 點。首先,納米疊層設計薄膜在紫外波段具有更高的反射率和更寬的帶寬,同時在可見至近紅外波段具有更低的透射波紋;其次,納米疊層設計薄膜中電場強度隨膜層深度衰減的更快,節瘤缺陷引起的電場增強更低,薄膜中的吸收更低,從(cong) 而具有更高的紫外激光損傷(shang) 閾值;最後,該技術適用於(yu) 大尺寸(對角線尺寸達米級)激光薄膜的製備。研究團隊利用納米疊層的折射率和光學帶隙可調諧的特性來設計超越傳(chuan) 統紫外激光薄膜性能的新型紫外激光反射薄膜,為(wei) 提高激光薄膜綜合性能提供了一種重要的技術途徑。基於(yu) 納米疊層的激光薄膜設計思想在未來可以通過改變疊層材料種類和厚度比例進一步拓展從(cong) 而形成其他高綜合性能的激光薄膜元件。據悉,本論文的核心概念已提交了中國發明專(zhuan) 利申請。

圖1. 高激光損傷(shang) 閾值反射薄膜膜係設計的結構示意圖。

(a)使用高折射率和低折射率材料交替結構的傳(chuan) 統組合膜係設計示意圖。

(b)使用納米疊層和低折射率材料交替結構的新型納米疊層膜係設計示意圖。

圖2. Al2O3、HfO2和Al2O3-HfO2納米疊層薄膜的性能表征。

(a)納米疊層薄膜中Al2O3和HfO2的含量隨膜層物理厚度的變化曲線。

(b)XRD譜圖。

(c)透射光譜曲線。A2O3單層膜,HfO2單層膜和Al2O3-HfO2納米疊層薄膜的物理厚度分別為(wei) 513.8 nm,540.7 nm和444.1 nm。插圖所示為(wei) 膜層折射率。

圖3. 傳(chuan) 統組合膜係設計和基於(yu) 納米疊層膜係設計的紫外反射薄膜性能。

(a)TCD和(b)NLD薄膜的剖麵形貌(由高分辨率透射電子顯微鏡表征)。

(c)SiO2,Al2O3和HfO2含量隨膜層深度的變化曲線。

(d)反射和(e)透射光譜曲線(45°入射角,實線:s偏振光,點線:p偏振光)。

(f)單脈衝(chong) 損傷(shang) 概率與(yu) 激光輻照能量的關(guan) 係。

(g)電場強度分布曲線。

(h)吸收隨波長的變化曲線。

圖4.激光損傷(shang) 形貌圖。

(a-h)SEM-FIB表征的激光損傷(shang) 表麵形貌圖和剖麵形貌圖。

(i-l)激光損傷(shang) 形貌隨激光能量變化的示意圖。


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