大族激光8月10日在互動平台表示，公司在研光刻機項目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等方麵的應用，目前已接到少量訂單。

　　光刻機是製造芯片的核心裝備。它采用類似照片衝(chong) 印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。而光刻機是中國芯片發展的最大障礙。

　　眾(zhong) 所周知，高端芯片製造所需的光刻機一直以來被荷蘭(lan) ASML公司壟斷，一台精密光刻機售價(jia) 上百億(yi) ，而我國半導體(ti) 行業(ye) 起步較晚，光刻機技術與(yu) ASML的差距非常大。

       具體(ti) 地，我國光刻機最高技術也就上海微電子所生產(chan) 的90nm光刻機。除此之外，目前合肥芯碩半導體(ti) 公司也具備量產(chan) 200nm光刻機的實力，無錫影幻半導體(ti) 公司也具備200nm光刻機量產(chan) 的實力。而ASML則在7nm級別。

        簡單來看，這些數字差距可能看起來不大，但事實上，90nm跟28nm或者是7nm是千差萬(wan) 別的，光刻機每上一個(ge) 台階技術難度就會(hui) 大大增加，可能從(cong) 90nm升級到65nm並不難，但是從(cong) 65nm升級到45nm，就是一個(ge) 技術節點了，至於(yu) 28nm、14nm和7nm，甚至未來有可能出現的3nm，那難度就更大了。也正因為(wei) 如此，我國的光刻機的研發進度一直都比較緩慢。

　　據有關(guan) 媒體(ti) 報道，光刻機正成為(wei) 華為(wei) 的第四場戰役。據悉，餘(yu) 承東(dong) 在一次百人大會(hui) 上的時候透露過，早在四年前，華為(wei) 就已經為(wei) 接下來集團的布局做好準備了，他們(men) 在2016年的時候就已經成立了團隊去研發光刻機，現在已經取得了很大的進展。