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深度解讀

光刻機照明係統透鏡表麵膜層生長更加均勻

來源:文匯報2021-05-07 我要評論(0 )   

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  ▲《fun88官网平台》由中國科學院上海光學精密機械研究所主辦、fun88官网平台雜誌社出版

 

《fun88官网平台》近期以封麵文章報道了中國科學院上海光學精密機械研究所張偉(wei) 麗(li) 研究組在大口徑大陡度透鏡表麵膜層性能提升方麵做出的一係列突破性進展,該研究采用寬角寬帶膜係和溫度-轉速綜合調控技術,解決(jue) 了大口徑大陡度透鏡表麵膜層傾(qing) 斜沉積導致的膜層生長特性改變和均勻性難題。

  高精密光學係統,尤其是光刻機係統中,通常會(hui) 設計並使用大量小曲率半徑的大陡度透鏡以實現大數值孔徑,這對鍍製其表麵的深紫外薄膜提出了極高的要求。

  與(yu) 平麵光學元件相比,大陡度透鏡表麵上的薄膜生長特性更為(wei) 複雜,需考慮膜層折射率非均勻性和厚度非均勻性等問題,而研究大陡度透鏡表麵膜層均勻性,是提升其元件光學性能及穩定性的前提。

  近十年來,張偉(wei) 麗(li) 研究組圍繞提升大陡度透鏡表麵膜層性能方麵開展了係統研究,建立了大陡度透鏡表麵膜層沉積角度變化計算模型,揭示了大陡度透鏡表麵薄膜生長特性與(yu) 沉積角度和曲率半徑的依賴關(guan) 係,發展了基於(yu) 溫度-轉速的折射率非均勻性調控技術,設計了寬角寬帶增透膜膜係,有效提升了大陡度透鏡表麵膜層折射率均勻性,實現了大口徑大陡度複雜曲麵薄膜元件光譜均勻性優(you) 於(yu) 公開報道水平。


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