近些年，隨著5G、物聯網時代的開啟，全球半導體(ti) 產(chan) 業(ye) 再度迎來了一波高速發展期。

要想占據5G和物聯網的製高點，那麽(me) 首要解決(jue) 的就是芯片問題。而要造出高端的芯片，得先解決(jue) 光刻機難題。

世人皆知，全球知名的光刻機公司是在荷蘭(lan) 。由於(yu) 在美國的禁令之下，短期內(nei) ，我們(men) 無法獲得荷蘭(lan) 的高端光刻機。

那麽(me) 問題來了，即便眼下處於(yu) 困境之中，國內(nei) 的一眾(zhong) 科技公司依然在全力發展半導體(ti) 產(chan) 業(ye) ，這是國人們(men) 看到了高端科技自主化的曙光！

此前有媒體(ti) 爆料，中科院已成功推出了5nm光刻技術。為(wei) 此獲得了網友們(men) 的一致好評

春公子發現，很多網友都認為(wei) 中科院推出的5nm光刻技術一出來，那麽(me) 高端光刻機的問題就會(hui) “迎刃而解”？其實不然。

首先，光刻和光刻機肯定不會(hui) 是一回事，光刻隻是一項技術，而光刻機是一項成熟的產(chan) 品。

《財經》新媒體(ti) 采訪了論文的通訊作者劉前後作了報道，劉前強調：“不用EUV光刻機就能造成5nm芯片是個(ge) 誤讀”。

但是，中科院的這項5nm激光光刻研究是很激動人心的，畢竟這是屬於(yu) 我國的技術。

另外，這次的研究使用的設備是我國獨立開發的，就是說有自主專(zhuan) 利，將來如果試產(chan) 成功，那麽(me) 就不再受製於(yu) 其他的國家了。

但有必要一說的是，荷蘭(lan) ASML的光刻機技術，可以說是全球最先進的水平，也是之前投入了大量的資金研發得來的成果，在這個(ge) 領域，中國與(yu) 它之間，還有很遠的距離，所以，規劃的時間也是2030年，也就是10年後。

我們(men) 得知道ASML的成功，不僅(jin) 僅(jin) 是因為(wei) 光刻機技術，而是全球化大生產(chan) 的結果，在光刻機的80000個(ge) 零部件中，荷蘭(lan) 的ASML光刻機是有多國技術的綜合體(ti) ，例如德國提供了特別先進的機械工藝，還有世界級的蔡司鏡頭。美國提供了光源，正是來自先進技術的提供，使得ASML公司在光科技術方麵突飛猛進的發展！

春公子和大家一樣，非常期望看到早日能解決(jue) 光刻機的問題。但我們(men) 也需要更冷靜，更理智的思考。

目前高端芯片從(cong) 研發出來，到保證優(you) 良率，再到量產(chan) 都是需要較長時間的。所以在一定的時間內(nei) 還是需要依靠荷蘭(lan) 的ASML光刻機。

真的要實現芯片技術「彎道超車」，就必須繼續重視芯片領域，做好產(chan) 學研結合，加大產(chan) 業(ye) 化環境建設，提高科研人員待遇。不知道諸位怎麽(me) 看？