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技術前沿

AI矽光切割—大族半導體新一代矽光隱切技術激活產業躍遷

來源:大族半導體(ti) 2026-05-09 我要評論(0 )   

隨著人工智能、數據中心及高速光通信的發展,算力需求持續提升,矽光(Si Photonics)技術作為(wei) 實現高速光電互連的核心路徑之一,正加速邁入規模化應用新階段。在此行業(ye) ...

隨著人工智能、數據中心及高速光通信的發展,算力需求持續提升,矽光(Si Photonics)技術作為(wei) 實現高速光電互連的核心路徑之一,正加速邁入規模化應用新階段。在此行業(ye) 趨勢下,晶圓切割作為(wei) 芯片製造的關(guan) 鍵工序,其加工精度、產(chan) 品良率及生產(chan) 效率,直接決(jue) 定矽光器件的量產(chan) 規模與(yu) 交付品質。


大族半導體(ti) 重磅推出全新一代矽晶圓激光隱形切割機:DSI-S-TC9261,該設備通過新一代自研激光隱形切割技術,滿足對高密度、高精度、超薄化的矽光芯片高難度隱切加工需求,為(wei) 矽光器件規模化生產(chan) 提供核心裝備支撐。


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設備核心優勢

01、HDE光學引擎與OAS係統


該設備針對光波導芯片、光透鏡芯片及光模塊結構特性開發,深度適配HDE光學引擎、定製升級OAS係統功能,充分應對市場規模化量產(chan) 需求。


02、窄切割道適配能力


支持背切工藝,適用於(yu) 切割道寬度≤20μm的窄切割道設計,無需考慮激光熱影響濺射問題,有效提升晶圓麵積利用率與(yu) 芯片產(chan) 出率。


03、光學結構兼容性


適配光學薄膜及光芯片結構切割,確保光波導、光透鏡結構分斷整齊,無損傷(shang) 、無殘留,保障器件光學性能。


04、紅外對位功能

設備配備紅外相機,支持背麵對位,滿足SDAG背麵隱形切割工藝需求,定位精度高、操作便捷,提升加工精準度。


05、超薄與小尺寸晶粒全覆蓋

適配厚度200μm以下晶圓,最薄可兼容50μm超薄晶圓加工;同時支持最小切割die size可達200μm,全麵覆蓋矽光芯片多樣化尺寸需求。


06、切割質量穩定

側(ce) 壁粗糙度及直線度控製良好,切割過程無崩邊及側(ce) 壁微裂紋風險,大幅提升芯片強度與(yu) 產(chan) 品良率,降低後續封裝損耗。


切割產品示例


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市場驗證情況

目前,DSI-S-TC9261矽晶圓激光新型隱切機已在國內(nei) 矽光模塊頭部客戶完成全流程工藝驗證,並成功導入量產(chan) 線。驗證數據表明,設備運行穩定,加工效果優(you) 於(yu) 進口同類設備,完全滿足矽光器件規模化生產(chan) 的應用要求,獲得客戶高度認可。


隨著矽光技術的持續突破與(yu) 廣泛應用,晶圓切割工藝正向高精度、高良率及高效率方向加速升級。大族半導體(ti) DSI-S-TC9261矽晶圓激光新型隱切機,精準契合矽光模塊晶圓切割加工的核心製程需求,提供穩定可靠的工藝支持,助力相關(guan) 產(chan) 品實現規模化製造,為(wei) 行業(ye) 發展注入新動能。

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