1.概述和背景

Shintech開發了新功能，尤其對LC透鏡研究和設計很有幫助。

【LC透鏡需要thicker cell gap】

LC透鏡有較高的延遲值，超過幾千納米，間隙厚度需要做得更厚來得到更高的阻滯值。

【LC材料與(yu) 電場】

LC材料響應電場，更厚的間隙帶可以產(chan) 生更高的應用電壓，這樣，LC透鏡就要求高電勢差。

LC透鏡需要高電勢差 

2.高阻膜和頻率

有兩(liang) 種模擬方法，一個(ge) 是dynamics，另一種是statics，statics通常用來獲得V-T曲線圖，這裏我們(men) 需要考慮statics模擬方式中電壓的意義(yi) 。電壓頻率應該為(wei) 0[HZ]，換句話說，statics是在DC假設的條件下計算出來的。

我們(men) 將AC假設和高阻材料加入到新靜力學中。LC透鏡研究人員在此條件下成功地減少了應用電壓，此為(wei) 一個(ge) 很大的設計技術革新。

Shintech LCD Master隻能用AC假設的static和高阻材料來模擬LC透鏡

3.舉(ju) 例

下圖綠色部分表示高阻層，紅色線表示電極。

下圖表示⊿nd曲線圖，延遲值取決(jue) 於(yu) 應用電壓波形頻率。

4.LCD Master/3D statics與(yu) AC假設

AC假設下的Statics和高阻函數不僅(jin) 能在LCD Master/2D中被執行，在LCD Master/3D中也可被執行，然而，三維中需要很長的時間來得到3D結果，對於(yu) 3D仿真，您需要高性能計算機才能運行得出結果。 

5.LCD Master/eWave

LCD Master 通常使用2X2或者4X4光學運算法則，即用一階麥克斯韋方程解算器來進行求解，然而，為(wei) 了獲得更多精確的結果，也用到二階或三階麥克斯韋方程解算器，即LCD Master/eWave，開始被應用。其特性如下：

1) LC導向數據，將自動輸出到eWave

2)對於(yu) LC透鏡研究者，在遠場進行參數評估是很重要的是可能的。

3) eWave使用特殊的運算法則來減少計算時間。

6.Micro測量儀(yi)

OPTIPRO/Micro可以測量10um大小的高阻膜，LCD Master可以輸出高阻滯值，這在第三章講過，LC透鏡研究人員可以很容易地比較測量和仿真結果。

7.結論

AC假設的Statics，高阻材料和eWave，這種組合加快並保證這種高阻膜LC透鏡高科技術的發展。LC透鏡研究人員同樣也可以通過OPTIPRO/Micro產(chan) 生的每一個(ge) 彌散點大小確認實際麵板阻滯空間分布。