在許多的光學係統中主軸的方向被一平麵所限製住。VStack是對這一類光學係統特性的計算工具。在vStack中光源是由一條條是光線所組成並透過係統進行進跡的工作，所以可以同時對任何傾(qing) 斜角度的表麵計算反射及穿透。

因為(wei) 針對多重表麵在方向上變化進行針算，所以在vStack中是使用生產(chan) 率(throughput)的方式取代平常使用的反射及穿透係數。生產(chan) 率(throughput)是來自光束透過係統所得到。使用者隻需要簡單的定義(yi) 表麵的順序，表麵的角度及反射與(yu) 穿透等參數。VStack將會(hui) 針對此係統所有的入射角度進行計算。vStack裏麵也提供了可調整的入射光束角度，而不需要改變vStack。光學係統大部份都會(hui) 包含一些傾(qing) 斜的表麵，所以就會(hui) 顯現出極化的特性。因此橢圓儀(yi) (ellipsometeric)的項 及 將會(hui) 被計算。使用 及 是因為(wei) 它們(men) 是獨立於(yu) 表麵間距的絕對值。

此類幾何結構將會(hui) 造成在儀(yi) 器表麵上同時發生的p及s極化光。當光束方向為(wei) 與(yu) 平麵有一傾(qing) 斜角，透過skew angle，這個(ge) 問題就不會(hui) 再發生。一些光線，原本為(wei) s極化光從(cong) 係統射出時將會(hui) 成為(wei) p極化光，而一些p極化光將會(hui) 成為(wei) p極化光。我們(men) 稱此一效應為(wei) 極化泄漏(polarization leakage)，其第一階正比於(yu) skew angle。因此我們(men) 可以得到一新的效能參數極化泄漏參數(polarization leakage coeffiecinet)，來描述此一效應。鍍膜設計將會(hui) 影向極化泄漏參數，同時也有可能影向反射及穿透係數，而且此類參數為(wei) 再定義(yi) (refinable)之參數在vStack的計算是非常簡易的，所需要設定的部份隻有一道光束。在許多係統中，包含角度，多層膜，分光器。為(wei) 了讓此類係統的參數能夠最佳化，必須進行corefinement這項功能。在vStack可利用許多的merit函數來進行自動化再調整的工作。

想象我們(men) 再設定一個(ge) 複雜的vStack，其表麵為(wei) 不同的傾(qing) 斜表，且其光線為(wei) 部份反射部份穿透，也許將會(hui) 是一項吃力的工作。這種設計很容易的各項表麵很容易的被錯誤的安排，使得光束無法打到正確的位置，或就此消失。為(wei) 了確定vStack的特色，使其更容易，所以其中提供了一個(ge) 圖形工具。這個(ge) 自動描繪vStack的配置工具，顯示出光線在穿過係統，其方向及在各表麵上之效應。使用此一工具將使建構vStack更為(wei) 容易。