1.1 機械拋光機械拋光是靠切削、材料表麵塑性變形去掉被拋光後的凸部而得到平滑麵的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為(wei) 主，特殊零件如回轉體(ti) 表麵，可使用轉台等輔助工具，表麵質量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特製的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表麵上，作高速旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度，是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模具常采用這種方法。
　　1.2 化學拋光化學拋光是讓材料在化學介質中表麵微觀凸出的部分較凹部分優(you) 先溶解，從(cong) 而得到平滑麵。這種方法的主要優(you) 點是不需複雜設備，可以拋光形狀複雜的工件，可以同時拋光很多工件，效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配製。化學拋光得到的表麵粗糙度一般為(wei) 數10μm。
　　1.3 電解拋光電解拋光基本原理與(yu) 化學拋光相同，即靠選擇性的溶解材料表麵微小凸出部分，使表麵光滑。與(yu) 化學拋光相比，可以消除陰極反應的影響，效果較好。電化學拋光過程分為(wei) 兩(liang) 步：
　　（1）宏觀整平溶解產(chan) 物向電解液中擴散，材料表麵幾何粗糙下降，Ra＞1μm。
　　（2）微光平整 陽極極化，表麵光亮度提高，Ra＜1μm。
　　1.4 超聲波拋光將工件放入磨料懸浮液中並一起置於(yu) 超聲波場中，依靠超聲波的振蕩作用，使磨料在工件表麵磨削拋光。超聲波加工宏觀力小，不會(hui) 引起工件變形，但工裝製作和安裝較困難。超聲波加工可以與(yu) 化學或電化學方法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎上，再施加超聲波振動攪拌溶液，使工件表麵溶解產(chan) 物脫離，表麵附近的腐蝕或電解質均勻；超聲波在液體(ti) 中的空化作用還能夠抑製腐蝕過程，利於(yu) 表麵光亮化。
　　1.5 流體(ti) 拋光流體(ti) 拋光是依靠高速流動的液體(ti) 及其攜帶的磨粒衝(chong) 刷工件表麵達到拋光的目的。常用方法有：磨料噴射加工、液體(ti) 噴射加工、流體(ti) 動力研磨等。流體(ti) 動力研磨是由液壓驅動，使攜帶磨粒的液體(ti) 介質高速往複流過工件表麵。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物（聚合物狀物質）並摻上磨料製成，磨料可采用碳化矽粉末。
　　1.6 磁研磨拋光磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷，對工件磨削加工。這種方法加工效率高，質量好，加工條件容易控製，工作條件好。采用合適的磨料，表麵粗糙度可以達到Ra0.1μm。
　　2 機械拋光基本方法在塑料模具加工中所說的拋光與(yu) 其他行業(ye) 中所要求的表麵拋光有很大的不同，嚴(yan) 格來說，模具的拋光應該稱為(wei) 鏡麵加工。它不僅(jin) 對拋光本身有很高的要求並且對表麵平整度、光滑度以及幾何精確度也有很高的標準。表麵拋光一般隻要求獲得光亮的表麵即可。鏡麵加工的標準分為(wei) 四級：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由於(yu) 電解拋光、流體(ti) 拋光等方法很難精確控製零件的幾何精確度，而化學拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光等方法的表麵質量又達不到要求，所以精密模具的鏡麵加工還是以機械拋光為(wei) 主。
　　2.1 機械拋光基本程序要想獲得高質量的拋光效果，最重要的是要具備有高質量的油石、砂紙和鑽石研磨膏等拋光工具和輔助品。而拋光程序的選擇取決(jue) 於(yu) 前期加工後的表麵狀況，如機械加工、電火花加工，磨加工等等。機械拋光的一般過程如下：
　　（1）粗拋 經銑、電火花、磨等工藝後的表麵可以選擇轉速在35 000—40 000 rpm的旋轉表麵拋光機或超聲波研磨機進行拋光。常用的方法有利用直徑Φ3mm、WA # 400的輪子去除白色電火花層。然後是手工油石研磨，條狀油石加煤油作為(wei) 潤滑劑或冷卻劑。一般的使用順序為(wei) #180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具製造商為(wei) 了節約時間而選擇從(cong) #400開始。
　　（2）半精拋 半精拋主要使用砂紙和煤油。砂紙的號數依次為(wei) ：#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實際上#1500砂紙隻用適於(yu) 淬硬的模具鋼（52HRC以上），而不適用於(yu) 預硬鋼，因為(wei) 這樣可能會(hui) 導致預硬鋼件表麵燒傷(shang) 。
　　（3）精拋精拋主要使用鑽石研磨膏。若用拋光布輪混合鑽石研磨粉或研磨膏進行研磨的話，則通常的研磨順序是9μm（#1800）~ 6μm（#3000）~3μm（#8000）。9μm的鑽石研磨膏和拋光布輪可用來去除#1200和#1500號砂紙留下的發狀磨痕。接著用粘氈和鑽石研磨膏進行拋光，順序為(wei) 1μm（#14000）~ 1/2μm（#60000）~1/4μm（#100000）。
　　精度要求在1μm以上（包括1μm）的拋光工藝在模具加工車間中一個(ge) 清潔的拋光室內(nei) 即可進行。若進行更加精密的拋光則必需一個(ge) 絕對潔淨的空間。灰塵、煙霧，頭皮屑和口水沫都有可能報廢數個(ge) 小時工作後得到的高精密拋光表麵。
　　2.2 機械拋光中要注意的問題用砂紙拋光應注意以下幾點：
　　（1）用砂紙拋光需要利用軟的木棒或竹棒。在拋光圓麵或球麵時，使用軟木棒可更好的配合圓麵和球麵的弧度。而較硬的木條像櫻桃木，則更適用於(yu) 平整表麵的拋光。修整木條的末端使其能與(yu) 鋼件表麵形狀保持吻合，這樣可以避免木條（或竹條）的銳角接觸鋼件表麵而造成較深的劃痕。#p#分頁標題#e#
　　（2）當換用不同型號的砂紙時，拋光方向應變換45°~ 90°，這樣前一種型號砂紙拋光後留下的條紋陰影即可分辨出來。在換不同型號砂紙之前，必須用100％純棉花沾取酒精之類的清潔液對拋光表麵進行仔細的擦拭，因為(wei) 一顆很小的沙礫留在表麵都會(hui) 毀壞接下去的整個(ge) 拋光工作。從(cong) 砂紙拋光換成鑽石研磨膏拋光時，這個(ge) 清潔過程同樣重要。在拋光繼續進行之前，所有顆粒和煤油都必須被完全清潔幹淨。
　　（3）為(wei) 了避免擦傷(shang) 和燒傷(shang) 工件表麵，在用#1200和#1500砂紙進行拋光時必須特別小心。因而有必要加載一個(ge) 輕載荷以及采用兩(liang) 步拋光法對表麵進行拋光。用每一種型號的砂紙進行拋光時都應沿兩(liang) 個(ge) 不同方向進行兩(liang) 次拋光，兩(liang) 個(ge) 方向之間每次轉動45°~ 90°。
　　鑽石研磨拋光應注意以下幾點：
　　（1）這種拋光必須盡量在較輕的壓力下進行特別是拋光預硬鋼件和用細研磨膏拋光時。在用#8000研磨膏拋光時，常用載荷為(wei) 100~200g/cm2，但要保持此載荷的精準度很難做到。為(wei) 了更容易做到這一點，可以在木條上做一個(ge) 薄且窄的手柄，比如加一銅片；或者在竹條上切去一部分而使其更加柔軟。這樣可以幫助控製拋光壓力，以確保模具表麵壓力不會(hui) 過高。
　　（2）當使用鑽石研磨拋光時，不僅(jin) 是工作表麵要求潔淨，工作者的雙手也必須仔細清潔。
　　（3）每次拋光時間不應過長，時間越短，效果越好。如果拋光過程進行得過長將會(hui) 造成“橘皮”和“點蝕”。
　　（4）為(wei) 獲得高質量的拋光效果，容易發熱的拋光方法和工具都應避免。比如：拋光輪拋光，拋光輪產(chan) 生的熱量會(hui) 很容易造成“橘皮”。
　　（5）當拋光過程停止時，保證工件表麵潔淨和仔細去除所有研磨劑和潤滑劑非常重要，隨後應在表麵噴淋一層模具防鏽塗層。
　　3 影響模具拋光質量的因素由於(yu) 機械拋光主要還是靠人工完成，所以拋光技術目前還是影響拋光質量的主要原因。除此之外，還與(yu) 模具材料、拋光前的表麵狀況、熱處理工藝等有關(guan) 。優(you) 質的鋼材是獲得良好拋光質量的前提條件，如果鋼材表麵硬度不均或特性上有差異，往往會(hui) 產(chan) 生拋光困難。鋼材中的各種夾雜物和氣孔都不利於(yu) 拋光。
　　3.1 不同硬度對拋光工藝的影響硬度增高使研磨的困難增大，但拋光後的粗糙度減小。由於(yu) 硬度的增高，要達到較低的粗糙度所需的拋光時間相應增長。同時硬度增高，拋光過度的可能性相應減少。
　　3.2 工件表麵狀況對拋光工藝的影響鋼材在切削機械加工的破碎過程中，表層會(hui) 因熱量、內(nei) 應力或其他因素而損壞，切削參數不當會(hui) 影響拋光效果。電火花加工後的表麵比普通機械加工或熱處理後的表麵更難研磨，因此電火花加工結束前應采用精規準電火花修整，否則表麵會(hui) 形成硬化薄層。如果電火花精修規準選擇不當，熱影響層的深度最大可達0.4mm。硬化薄層的硬度比基體(ti) 硬度高，必須去除。因此最好增加一道粗磨加工，徹底清除損壞表麵層，構成一片平均粗糙的金屬麵，為(wei) 拋光加工提供一個(ge) 良好基礎。