248nm準分子激光器技術由於輸出波長短、能量高、具有窄的脈寬和很高的峰值功率，在工業、國防等方麵，尤其是高功率激光係統包括248nm光刻技術、激光醫療、激光精細加工中具有極廣的應用前景，也是ICF領域一個重要的技術選項。248nm薄膜元件是準分子激光係統中重要的薄膜元器件，其光學損耗和抗激光損傷性能對激光係統的效率起著重大或決定性的作用。
中國科學院上海光學精密機械研究所研究了LaF3、MgF2、Al2O3和SiO2薄膜的低吸收、低損耗蒸發沉積工藝，在此基礎上設計並製備了兩種248nm增透膜，增透膜的剩餘反射率均小於0.1%。“天光”準分子激光係統將該所製備的增透膜元件與國際最重要，也代表最高國際水平的德國研製元件進行了損傷閾值對比測試，測試波長248nm，脈寬24ns。結果顯示，對比德國5.5J/cm2的損傷閾值，該所製備的LaF3/MgF2增透膜平均在7.5J/cm2，最高達到11J/cm2；Al2O3/SiO2製備的增透膜的損傷閾值平均在6J/cm2。證明上海光機所研製的248nm增透膜損傷閾值結果達到國際領先水平。
圖1. 兩種材料組合製備的248nm增透膜的光譜曲線
圖2. 248nm增透膜的損傷閾值對比測試結果
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