星之球科技 來源：慧聰表麵處理網2014-01-14
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由於(yu) 激光加熱蒸發是獨特的物理過程，故激光薄膜沉積有以下優(you) 點： (1)激光器安裝在真空室外，簡化了真空室內(nei) 部的空間布置。由於(yu) 采用非接觸式加熱不需要坩堝，避免了坩堝...
由於(yu) 激光加熱蒸發是獨特的物理過程，故激光薄膜沉積有以下優(you) 點：
(1)激光器安裝在真空室外，簡化了真空室內(nei) 部的空間布置。由於(yu) 采用非接觸式加熱不需要坩堝，避免了坩堝的汙染，適宜在超高真空下製備高純薄膜。
(2)鍍膜裝置靈活性大。可以設置多個(ge) 靶，施行順序蒸發，一次完成多層膜的原位沉積產(chan) 生原子級清潔的界麵。
(3)可以蒸發金屬、半導體(ti) 、陶瓷等各種無機材料。有利於(yu) 解決(jue) 高熔點材料，如氮化物、硼化物、矽化物等的薄膜沉積問題。
(4)可引入各種活性氣體(ti) ，如氫、氧等，製備氫化物和氧化物薄膜。
(5)靶材用量少。靶的尺寸原則上隻要比束斑大一點即可。故適於(yu) 製備稀有貴重金屬薄膜。
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