光束整形（Beam Shaping）是一種利用光束控製技術來改變光束的形狀和特性的過程。隨著激光技術的不斷發展，激光的應用也越來越廣泛，但是在半導體光刻、激光印刷、激光加工、光學信息處理等領域中，都對激光光束的均勻性有著一定的要求。然而激光器諧振腔輸出的光束呈高斯分布，這一特性使其往往不能被直接使用，需要通過光束整形來提高均勻性，以滿足應用的需求。目前激光光束整形方法主要包括光闌法、場映射法和多孔徑光束聚焦法。光闌法（Aperture Method）是一種常見的光束整形方法，使用的是光闌來調整光束的形狀和大小。在光學設備中，光闌是一個(ge) 用於(yu) 限製和調整光束的物理孔徑或開口。通過控製光闌的形狀和大小，可以調整光束的橫截麵形狀和大小，從(cong) 而達到特定的光學性能。例如，將光闌設置為(wei) 圓形，可以得到一個(ge) 圓形光束；將光闌設置為(wei) 矩形，則可以得到一個(ge) 矩形光束。在光闌法中，通常使用透鏡或聚焦器將光束聚焦到光闌上，調整光闌的位置和大小來實現所需的光束形狀和性能。光闌法可以用於(yu) 激光微加工、光纖通信、光學傳(chuan) 感等領域，是一種簡單有效的光束整形方法。場映射法（Field Mapping Method）是一種常用的光束整形方法，它通過在光學係統的傳(chuan) 輸路徑中使用特定的光學元件，如透鏡陣列或光柵陣列，來調整光束的形狀和分布。場映射法的基本原理是將輸入光束的場分布映射到輸出光束上，通過調整映射元件的參數，可以改變光束的橫截麵形狀、尺寸和強度分布。在場映射法中，常用的光學元件包括透鏡陣列和光柵陣列。透鏡陣列可以用來調整光束的焦距和聚焦效果，從(cong) 而改變光束的聚焦性質。光柵陣列則可以用來分割光束和調整光束的相位分布，從(cong) 而實現形狀和分布的變換。多孔徑光束聚焦法（Multi-aperture Beam Focusing Method）由微鏡陣列和聚焦元件組成，輸入光束首先被微鏡陣列分成若幹子光束，再通過聚焦透鏡對子光束疊加輸出，以實現對光束的整形操作。這種方法適用於(yu) 空間相幹度較低的多模激光器，常用於(yu) 光刻、激光加工和準分子激光器的整形中。微鏡陣列材料易獲取，結構緊湊、易於(yu) 調整，能量損耗較低，在光束整形領域有很好的應用。微鏡陣列有很多種類，常見的有正交光楔陣列、複眼透鏡陣列、微反射鏡陣列、可變焦微透鏡陣列等。微鏡陣列的整形效果受到很多因素製約。其中陣列個(ge) 數的影響最大，通常，雙列微鏡係統的光束整形能力是優(you) 於(yu) 單列微鏡係統的，這是因為(wei) 第二列微鏡會(hui) 充當場鏡陣列，使得入射光束經過光學係統後，其輻照光斑的邊緣能量差異降低，進而提高均勻性。這三種光束整形方法中，光闌法作為(wei) 傳(chuan) 統光束整形技術具有原理簡單、操作方便等優(you) 點，但其會(hui) 造成輸入光束的能量損失。場映射器法經過嚴(yan) 謹的設計可以做到有效無損，特別適用於(yu) 單模激光器的整形。多孔徑光束聚焦法中以 DMD 為(wei) 代表的微反射陣列由於(yu) 可主動調節有著不錯的發展前景。這些方法常用於(yu) 激光加工、光通信、光刻、光學顯微鏡、光學測量和生物醫學等領域，以滿足各種應用的需求。具體(ti) 選擇哪種方法取決(jue) 於(yu) 需要實現的光束整形效果、光源類型、工作波長以及實際應用場景。光研科技自主研發的光斑儀可實現激光光斑檢測及測試應用，為客戶提供定製光束質量分析一體化設計解決方案，並支持多應用開發。通過光束分析裝置一體化設計，配套衰減方案設計，支持實時曝光及增益調節。可根據客戶不同需求進⾏模塊化定製，適用在半導體激光器，固體激光器，光纖激光器，超快激光器，激光測距等領域。目前已作為成熟產品在市場推廣，性價比很高，得到多個⾏業的客戶廣泛認同。1，可選超寬光譜多波⻓係列產品，覆蓋紫外到⻓波紅外波⻓範圍。2，較寬的光斑直徑測量範圍：光斑直徑範圍可滿足目前市場大部分的光斑產品範圍，並支持更小光斑拓展。3，光束質量分析儀一體化設計，配套衰減方案設計：設備自帶衰減裝置，可測毫瓦級低功率的激光，也可根據不同功率激光測試的需求，提供可選的衰減方案，無需準備其他配件即可快速測量。5，高性價比，可代替進口激光光束質量分析儀，實現激光光斑檢測及測試應用.6，需求定製:可為客戶定製不同需求的光束質量分析儀，不同的激光束直徑，激光功率等。
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