眾(zhong) 所周知，目前嚴(yan) 重製約國產(chan) 芯片製造技術進步的設備，就是光刻機了，因為(wei) 目前全球最先進的光刻機是ASML的EUV光刻機，用於(yu) 7nm及以下的芯片生產(chan) ，僅(jin) ASML能夠生產(chan) ，卻不能賣給中國大陸。

而國內(nei) 最強的上海微電子生產(chan) 的光刻機，還在90nm，業(ye) 內(nei) 人士表示，我們(men) 與(yu) ASML的差距可能得有10年以上。

也正因為(wei) 買(mai) 不到EUV光刻機，所以我們(men) 目前的芯片製造技術還停留在14nm，所以發展自己的光刻機，成為(wei) 了當前芯片市場的重中之重。

而近日，傳(chuan) 出一則消息，那就是華為(wei) 也開始布局光刻機了，華為(wei) 旗下的專(zhuan) 業(ye) 投資半導體(ti) 產(chan) 業(ye) 的哈勃投資，正式入股北京科益虹源光電技術有限公司。

所占股份大約為(wei) 4.7619%，而投資金額大約在1000萬(wan) 元左右，目前科益虹源的注冊(ce) 資金變成了20160萬(wan) 元。

科益虹源是什麽(me) 來頭？它是國內(nei) 唯一，也是全球第三家具備193nm ArF準分子激光技術研究和產(chan) 品化的公司。

在2018年的時候，科益虹源自主設計開發的國內(nei) 首台高能準分子激光器順利出貨，目前已經是國內(nei) 光刻機廠商上海微電子的光源係統供應商。

此外，科益虹源還承擔了“02重大專(zhuan) 項浸沒光刻光源研發”、“02重大專(zhuan) 項核心零部件國產(chan) 化能力建設”、“02重大專(zhuan) 項集成電路晶圓缺陷檢測光源”等國家專(zhuan) 項，可以說是目前在光刻機光源這個(ge) 核心技術上，最厲害的國產(chan) 廠商了。

當然光刻機中的核心部件特別多，比如ASML的EUV光刻機，有10多萬(wan) 個(ge) 零件，光源之隻是其中的一部分，但如果要攻克光刻機，光源是必不可少的部分，也是必須要攻克的部分，是核心中的核心。

所以華為(wei) 哈勃投資入股科益虹源，很明顯，是為(wei) 了加碼布局光刻機領域的研發，畢竟華為(wei) 目前非常需要國產(chan) 芯片製造技術能夠崛起。

所以爭(zheng) 取國產(chan) 光刻機，早日能夠突破，追上甚至超過ASML的水平，那麽(me) 國產(chan) 芯片製造技術，就會(hui) 有長足的進步。