4月17日，科創板企業(ye) 舉(ju) 行2019年度網上業(ye) 績說明會(hui) 。公司董事長尹誌堯介紹，國內(nei) 集成電路製造產(chan) 業(ye) 大發展，大量資金不斷投入，集成電路設備需求迅速提高。設備國產(chan) 化條件逐漸成熟，國產(chan) 化趨勢明顯，這些因素推動公司業(ye) 績增長。中微公司計劃不斷開發新產(chan) 品，提高市場占有率。公司將在適當時機通過投資、並購等外延式途徑，擴大產(chan) 品和市場覆蓋，未來十年力爭(zheng) 發展成為(wei) 國際一流的半導體(ti) 設備公司。

業(ye) 績快速增長

2019年中微公司實現營業(ye) 總收入19.47億(yi) 元，同比增長18.77%；實現歸屬於(yu) 上市公司股東(dong) 的淨利潤1.89億(yi) 元，同比增長107.51%。

“堅持以市場和客戶需求為(wei) 導向，積極應對複雜形勢，在刻蝕設備和MO的研發、市場布局等諸多方麵取得了較大突破，產(chan) 品不斷獲得更多客戶認可，為(wei) 公司持續健康發展提供了有力支撐。”尹誌堯說。

國內(nei) 半導體(ti) 設備需求增長等因素推動中微公司業(ye) 績增長。

首先，公司主打產(chan) 品等離子體(ti) 刻蝕機市場迅速增長。尹誌堯表示，公司的等離子體(ti) 刻蝕設備係列產(chan) 品不斷完善。公司具有CCP三代的電容性等離子體(ti) 刻蝕機，包括雙台反應器機型和單台反應器機型，開發了ICP電感性等離子體(ti) 刻蝕單台反應器機型，正在開發雙台機。設備產(chan) 品不斷進入市場，刻蝕機銷售快速成長。

其次，隨著照明產(chan) 業(ye) 的發展，MOCVD設備市場需求在2017年-2018年達到曆史新高。尹誌堯介紹，公司開發的MOCVD設備逐步成為(wei) 氮化镓基藍光LED器件製造的首選設備，連續獲得大批量訂單。

半導體(ti) 設備國產(chan) 化率提高是公司發展的重要推動力。尹誌堯指出，國內(nei) 集成電路製造產(chan) 業(ye) 大發展，大量資金不斷投入，對集成電路前端設備的需求量迅速提高。2019年國內(nei) 集成電路前端市場達到全球的20%左右。

“設備國產(chan) 化條件逐漸成熟，設備國產(chan) 化趨勢日益明顯。”尹誌堯表示。

覆蓋不同市場

“半導體(ti) 設備產(chan) 業(ye) 波動大，必須未雨綢繆，擴展設備種類，覆蓋不同市場。”尹誌堯表示，今後十年中微公司將采取三個(ge) 維度的發展策略。一是從(cong) 目前的等離子體(ti) 刻蝕設備，擴展到化學薄膜設備以及和刻蝕及薄膜有關(guan) 的測試等關(guan) 鍵設備。二是擴展在泛半導體(ti) 設備領域的產(chan) 品，從(cong) 用於(yu) 製造MEMS和CIS影像感測器的刻蝕設備、製造藍光LED的MOCVD設備，擴展到更多的微觀器件加工設備，及製造深紫外LED、Mini-LED、Micro-LED等微觀器件的設備產(chan) 品。三是探索核心技術在環境保護、工業(ye) 互聯網等領域及其他新的應用。

尹誌堯表示，公司將在適當時機，通過投資、並購等外延式生長途徑，擴大產(chan) 品和市場覆蓋，未來十年力爭(zheng) 發展成為(wei) 規模和市場占有率方麵達到國際一流的半導體(ti) 設備公司。

新產(chan) 品開發方麵，根據中微公司公告，公司等離子體(ti) 刻蝕設備已應用在國內(nei) 外知名廠商55納米到5納米的眾(zhong) 多芯片生產(chan) 線上。特別是中微的電容性CCP等離子體(ti) 刻蝕設備，已在國際領先的晶圓生產(chan) 線核準5納米的若幹關(guan) 鍵步驟加工。

生產(chan) 經營已步入正軌

中微公司相關(guan) 業(ye) 務受到疫情一定影響。“中微有400多家材料和零部件供應廠商，管理產(chan) 業(ye) 鏈的確是一個(ge) 很有挑戰的任務。疫情期間，公司一直緊密跟蹤供應廠商的供貨情況，有問題及時解決(jue) ，保證材料按時供應，設備的按時運出。”尹誌堯說，少數供應商的極個(ge) 別零部件，由於(yu) 疫情影響產(chan) 能調整，中微公司和這幾家供應廠商及時溝通，要求零部件按時到位。

生產(chan) 方麵，尹誌堯介紹，2月下旬生產(chan) 線已完全恢複，生產(chan) 經營情況已步入正軌。設備按計劃運出方麵，除武漢地區客戶有些推遲，其他地區都按計劃進行。疫情影響有限，公司今年訂單總體(ti) 健康向好，但下半年情況要視疫情對整個(ge) 半導體(ti) 產(chan) 業(ye) 的影響。