現在當今世界，5nm芯片生產(chan) 工藝可以說是最尖端的科技，國內(nei) 現在最先進的中芯國際公司也才剛剛突破N+1生產(chan) 工藝，能夠實現大概7納米生產(chan) 工藝水平。近日中科院表示張子暘團隊光刻方麵取得研究進展，在5nm光刻工藝上研發出來一種新型的5nm芯片的加工方法。當前在5納米芯片加工生產(chan) 中，主流生產(chan) 技術是光刻技術和極紫光光刻技術兩(liang) 種，而張子暘團隊的5nm工藝則是在無掩模光刻技術上的一項研究。傳(chuan) 統中的無掩模光刻技術的成本非常低，但是激光的精度卻難以掌控，這也是這項技術難以量產(chan) 應用的原因。

而這次，張子暘團隊進行研究的就是無掩膜光刻技術，這次研究通過雙激光束交疊技術達到了5納米的光刻精度，能夠實現5納米芯片的生產(chan) 。這樣的技術不僅(jin) 讓無掩模光刻機光刻精度大大提升，達到了生產(chan) 5nm芯片的要求，而且生產(chan) 效率也有所提高。據中國微米納米技術學會(hui) 報道，中國科學院蘇州納米技術與(yu) 納米仿生研究所張子暘研究員，與(yu) 國家納米科學中心劉前研究員合作，在其發表的論文講述了該團隊開發的新型 5 nm 超高精度激光光刻加工方法。

當然，這個(ge) 還是一個(ge) 實驗室的技術，想成功應用到生產(chan) 當中去，可能還需要不短的路要走，但是畢竟5nm光刻新技術已經實現突破，接下來隻要在設備製造和生產(chan) 商再次獲得突破，那麽(me) 未來可能5nm直刻技術就能夠很好的應用到生產(chan) 中去。而且現在張子暘團隊在5納米芯片生產(chan) 研發獲得突破，采用的設備應該全部是自研設備，如果未來這項技術能夠獲得量產(chan) 的話，那麽(me) 我國芯片製造產(chan) 業(ye) 可能將會(hui) 實現飛躍發展。甚至未來有可能一改世界芯片製造設備生產(chan) 的格局，可能讓ASML就會(hui) 難受。

從(cong) 現在來看，國內(nei) 在芯片製造領域內(nei) 也在做兩(liang) 方麵的準備和研究。一個(ge) 是激光直刻技術，一個(ge) 就是在研發更先進的EUV光刻機。如果這兩(liang) 個(ge) 芯片光刻方麵的頂尖設備和頂尖生產(chan) 技術，科研院所以及企業(ye) 能夠獲得更快的突破，那麽(me) 未來我國生產(chan) 5納米芯片，甚至是更先進的3納米，2納米的芯片都將成為(wei) 可能，那麽(me) 未來我國的芯片產(chan) 業(ye) 發展將會(hui) 發展的更好。