全同弱反射光纖光柵陣列

　　全同弱反射光纖陣列在分布式傳(chuan) 感領域有很重要的運用，不僅(jin) 可以極大提升FBG解調係統（DAS、DTS、OFDR等）的複用容量和傳(chuan) 感距離，而且可以進一步空間分辨率和測量精度。結合飛秒光柵的高溫特性，可以很好運用到油井勘探、石油化工、周界安防、橋梁大壩、航空航天等領域。

　　如圖2，刻寫(xie) 的全同弱反射光柵陣列參數如下：中心波長為(wei) 1550nm，光柵長度為(wei) 1mm，光柵間距為(wei) 5mm，光柵數量為(wei) 50個(ge) ，背向反射信號強度提升35dB，刻寫(xie) 結果相對穩定。

　　全同弱反射光纖光柵OFDR測試譜

　　上海津鐳光電科技有限公司開發的光纖光柵加工設備，采用飛秒激光直寫(xie) 技術，刻寫(xie) 的光柵陣列具有操作簡單，無須掩模板，無須剝離塗覆層，無須載氫和二次塗覆等優(you) 點，可以很大程度保持光纖原有的抗拉強度，所刻寫(xie) 的單模光纖光柵最高可耐1000℃高溫,長期穩定性好的特點。