近期，中國科學院光電技術研究所順利完成新一代單場超大麵積光刻機(650mmX650mm)研製，並通過用戶驗收，各項技術指標達到國際先進水平。新一代超大麵積光刻機采用2500W大功率高壓汞燈作為光源，利用離軸非球麵反射鏡結合蠅眼透鏡勻光技術，在實現高光功率密度的同時，保證照明均勻性。同時，為解決大尺寸樣片調平及對準等關鍵技術問題，創新性地采用了低阻力氣浮調平技術以及可變倍率光學係統等先進技術。經測試，設備在650mm×650mm照明麵積內，光功率密度大於15mW/cm2，照明不均勻性≤5%，能夠一次性進行650mm×650mm的大麵積樣片加工，加工分辨力達到2μm，對準精度±1μm。
該設備具有大曝光麵積、高套刻對準精度、高可靠性、操作方便、自動化程度高等特點，不僅能夠在平板顯示產業進行彩膜(CF)、隔柱(Spacer)以及薄膜晶體管(TFT)等核心部件加工，還能夠應用於微電子、微機電、微光學領域進行各種芯片、傳感器、大尺寸光柵、碼盤等微納元件加工及芯片封裝。同時該設備還能夠在宏觀加工領域，完成傳統機械加工方式難以實現的薄壁零件等高難度加工，應用領域廣泛。
近日，首家用戶中科院西安光學精密機械研究所在光電所舉行了設備驗收會。西安光機所有關專家聽取報告，並對超大麵積光刻機設備進行了現場測試與實驗，驗證了各項性能指標均滿足設計要求，對光電所研製水平表示了肯定和讚賞。新一代單場超大麵積光刻設備，無論是曝光麵積、照明不均勻性、光功率密度還是對準精度等核心技術指標都處於國際先進水平。其成功研製對提升我國微細加工設備整體研製水平，促進我國單場超大麵積極端微細加工技術發展具有重要的現實意義。
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