隨著微電子技術的飛速發展，大規模和超大規模集成電路的廣泛應用，微組裝技術的進步，使印製電路板的製造向著積層化、多功能化方向發展，使印製電路圖形導線細、微孔化窄間距化，加工中所采用的機械方式鑽孔工藝技術已不能滿足要求而迅速發展起來的一種新型的微孔加工。

隨著微電子技術的飛速發展，大規模和超大規模集成電路的廣泛應用，微組裝技術的進步，使印製電路板的製造向著積層化、多功能化方向發展，使印製電路圖形導線細、微孔化窄間距化，加工中所采用的機械方式鑽孔工藝技術已不能滿足要求而迅速發展起來的一種新型的微孔加工方式即激光鑽孔技術。 

一 .激光成孔的原理 

激光是當“射線”受到外來的刺激而增加能量下所激發的一種強力光束，其中紅外光和可見光具有熱能，紫外光另具有光學能。此種類型的光射到工件的表麵時會(hui) 發生三種現象即反射、吸收和穿透。

透過光學另件擊打在基材上激光光點，其組成有多種模式，與(yu) 被照點會(hui) 產(chan) 生三種反應。

激光鑽孔的主要作用就是能夠很快地除去所要加工的基板材料，它主要靠光熱燒蝕和光化學燒蝕或稱之謂切除。

(1)光熱燒蝕：指被加工的材料吸收高能量的激光，在極短的時間加熱到熔化並被蒸發掉的成孔原理。此種工藝方法在基板材料受到高能量的作用下，在所形成的孔壁上有燒黑的炭化殘渣，孔化前必須進行清理。

(2)光化學燒蝕：是指紫外線區所具有的高光子能量(超過2eV電子伏特)、激光波長超過400納米的高能量光子起作用的結果。而這種高能量的光子能破壞有機材料的長分子鏈，成為(wei) 更小的微粒，而其能量大於(yu) 原分子，極力從(cong) 中逸出，在外力的掐吸情況之下，使基板材料被快速除去而形成微孔。因此種類型的工藝方法，不含有熱燒，也就不會(hui) 產(chan) 生炭化現象。所以，孔化前清理就非常簡單。

以上就是激光成孔的基本原理。目前最常用的有兩(liang) 種激光鑽孔方式：印製電路板鑽孔用的激光器主要有RF激發的CO2氣體(ti) 激光器和UV固態Nd：YAG激光器。

(3)關(guan) 於(yu) 基板吸光度：激光成功率的高低與(yu) 基板材料的吸光率有著直接的關(guan) 係。印製電路板是由銅箔與(yu) 玻璃布和樹脂組合而成，此三種材料的吸光度也因波長不同有所不同但其中銅箔與(yu) 玻璃布在紫外光0．3mμ以下區域的吸收率較高，但進入可見光與(yu) IR後卻大幅度滑落。有機樹脂材料則在三段光譜中，都能維持相當高的吸收率。這就是樹脂材料所具有的特性，是激光鑽孔工藝流行的基礎。

二 .CO2激光成孔的不同的工藝方法 

CO2激光成孔的鑽孔方法主要有直接成孔法和敷形掩膜成孔法兩(liang) 種。所謂直接成孔工藝方法就是把激光光束經設備主控係統將光束的直徑調製到與(yu) 被加工印製電路板上的孔直徑相同，在沒有銅箔的絕緣介質表麵上直接進行成孔加工。敷形掩膜工藝方法就是在印製板的表麵塗覆一層專(zhuan) 用的掩膜，采用常規的工藝方法經曝光/顯影/蝕刻工藝去掉孔表麵的銅箔麵形成的敷形窗口。然後采用大於(yu) 孔徑的激光束照射這些孔，切除暴露的介質層樹脂。現分別介紹如下： 

(1)開銅窗法： 

首先在內(nei) 層板上複壓一層RCC(塗樹脂銅箔)通過光化學方法製成窗口，然後進行蝕刻露出樹脂，再采用激光燒除窗口內(nei) 基板材料即形成微盲孔：

當光束經增強後通過光圈到達兩(liang) 組電流計式的微動反射掃描鏡，並經一次垂直對正(Fθ 透鏡)而達到可進行激動的台麵的管區，然後再逐一燒成微盲孔。

在一英寸見方的小管區內(nei) 經電子快束這定位後，對0.15mm的盲孔可連打三槍成孔。其中第一槍的脈衝(chong) 寬度約為(wei) 15μs，此時提供能量達到成孔的目的。後再槍則利用來清理孔壁孔底的殘渣和修正孔。

激光能量控製良好的0.15mm微盲孔的SEM橫斷麵及45度的全圖，此種開窗口的成孔工藝方法，當底墊(靶標盤)不大時又需大排版或二階盲孔時，其對準度就比較困難。 

(2)開大窗口工藝方法：

前一種工藝方法成孔的直徑與(yu) 所開的銅窗口相同，如果操作稍有不慎就會(hui) 使所開窗口的位置產(chan) 生偏差，導致成孔的盲孔位置走位致使與(yu) 底墊中心失準的問題產(chan) 生。該銅窗口的偏差產(chan) 生的原因有可能是基板材料漲縮和圖像轉移所采用的底片變形有關(guan) 。所以采取開大銅窗口的工藝方法，就是將銅窗口直徑擴大到比底墊還大經 0.05mm左右(通常按照孔徑的大小來確定，當孔徑為(wei) 0.15mm時，底墊直徑應在0．25mm左右，其大窗口直徑為(wei) 0．30mm)然後再進行激光鑽孔，即可燒出位置精確對準底墊的微盲孔。其主要特點是選擇自由度大，進行激光鑽孔時可選擇另按內(nei) 層底墊的程式去成孔。這就有效的避免由於(yu) 銅窗口直徑與(yu) 成孔直徑相同時造成的偏位而使激光點無法對正窗口，使批量大的大拚板麵上會(hui) 出現許多不完整的半孔或殘孔的現象。

(3)樹脂表麵直接成孔工藝方法 

采用激光成孔有幾種類型的工藝方法進行激光鑽孔： 

A．基板是采用在內(nei) 層板上層壓塗樹脂銅箔，然後將銅箔全部蝕刻去掉，就可采用CO2激光在裸露的樹脂表麵直接成孔，再繼續按照鍍覆孔工藝方法進行孔化處理。

B．基板是采用FR-4半固化片和銅箔以代替塗樹脂銅箔的相類似製作工藝方法。

C．塗布感光樹脂後續層壓銅箔的工藝方法製作。

D．采用幹膜作介質層與(yu) 銅箔的壓貼工藝方法製作。

E.塗布其它類型的溫膜與(yu) 銅箔覆壓的工藝方法來製作。 

4)采用超薄銅箔的直接燒蝕的工藝方法 

內(nei) 層芯板兩(liang) 麵壓貼塗樹脂銅箔後，可采用“半蝕方法”將銅箔厚度17m經蝕刻後減薄到5微米，然後進行黑氧化處理，就可采用CO2激光成孔。

其基本原理就是經氧化處理成黑的表麵會(hui) 強烈吸光，就會(hui) 在提高CO2激光的光束能量的前提下，就可以直接在超薄銅箔與(yu) 樹脂表麵成孔。但最困難的就是如何確保 “半蝕方法”能否獲得厚度均勻一致的銅層，所以製作起來要特別注視。當然可采用背銅式可撕性材料(UTC)，銅箔相當簿約5微米。

根據這種類型的板加工，目前在工藝上主要采取以下幾個(ge) 方麵：

這主要對材料供應商提出嚴(yan) 格的質量和技術指標，要確保介質層的厚度的差異在510μm之間。因為(wei) 隻有確保塗樹脂銅箔基材的介質厚度的均勻性，在同樣的激光能量的作用下，才能確保孔型的準確性和孔底部的幹淨。同時還需要在後續工序中，采用最佳的除鑽汙工藝條件，確保激光成孔後盲孔底部的幹淨無殘留物。對盲孔化學鍍和電鍍層的質量會(hui) 產(chan) 生良好的作用。 

三　Nd：YAG激光鑽孔工藝方法

Nd：YAG是釹和釔鋁柘榴石。兩(liang) 種固態晶體(ti) 共同激發出的UV激光。最近多采用的二極管脈衝(chong) 激勵的激光束，它可以製成有效的激光密封係統，不需要水冷。這種激光三次諧波波長為(wei) 355納米(nm)、四次諧波波長為(wei) 266納米(nm)，波長是由光學晶體(ti) 調製的。

這種類型的激光鑽孔的最大特點是屬於(yu) 紫外光(UV)譜區，而覆銅箔層壓板所組成的銅箔與(yu) 玻璃纖維在紫外光區域內(nei) 吸光度很強，加上此類激光的光點小能量大，故能強力的穿透銅箔與(yu) 玻璃布而直接成孔。由於(yu) 上種類型的激光熱量較小，不會(hui) 象CO2激光鑽孔後生成炭渣，對孔壁後續工序提供了很好的處理表麵。

Nd：YAG激光技術在很多種材料上進行徽盲孔與(yu) 通孔的加工。其中在聚酰亞(ya) 胺覆銅箔層壓板上鑽導通孔，最小孔徑是25微米。從(cong) 製作成本分析，最經濟的所采用的直徑是25125微米。鑽孔速度為(wei) 10000孔/分。可采用直接激光衝(chong) 孔工藝方法，孔徑最大50微米。其成型的孔內(nei) 表幹淨無碳化，很容易進行電鍍。同樣也可在聚四氟乙烯覆銅箔層壓板鑽導通孔，最小孔徑為(wei) 25微米，最經濟的所采用的直徑為(wei) 25125微米。鑽孔速度為(wei) 4500孔／分。不需預蝕刻出窗口。所成孔很幹淨，不需要附加特別的處理工藝要求。還有其它材料成型孔加工等。

具體(ti) 加工中可采用以下幾種工藝方法：

(1)根據兩(liang) 類激光鑽孔的速度采取兩(liang) 種並用的工藝方法 

基本作業(ye) 方法就是先用YAG把孔位上表麵的銅箔燒蝕，然後再采用速度比YAG鑽孔快的CO2激光直接燒蝕樹脂後成孔。

四 .實際生產(chan) 中產(chan) 生的質量問題 

激光鑽孔過程中，產(chan) 生的質量問題比較多，不準備全麵講述，隻將最易出現的質量問題提出供同行參考。 

(1)開銅窗法的CO2激光鑽孔位置與(yu) 底靶標位置之間失準 

在激光鑽孔中，光束定位係統對於(yu) 孔徑成型的準確性極關(guan) 重要。盡管采用光束定位係統的精確定位，但由於(yu) 其它因素的影響往往會(hui) 產(chan) 生孔形變形的缺焰。生產(chan) 過程中產(chan) 生的質量問題，其原因分析如下：

1．製作內(nei) 層芯板焊盤與(yu) 導線圖形的底片，與(yu) 塗樹脂銅箔(RCC)增層後開窗口用的底片，由於(yu) 兩(liang) 者都會(hui) 因為(wei) 濕度與(yu) 溫度的影響尺寸增大與(yu) 縮小的潛在因素。 

2．芯板製作導線焊盤圖形時基材本身的尺寸的漲縮，以及高溫壓貼塗樹脂銅箔(RCC)增層後，內(nei) 外層基板材料又出現尺寸的漲縮因素存在所至。 

3．蝕刻所開銅窗口尺寸大小與(yu) 位置也都會(hui) 產(chan) 生誤差。 

4．激光機本身的光點與(yu) 台麵位移之間的所造成的誤差。 

5．二階盲孔對準度難度就更大，更易引起位置誤差。

根據上述原因分析，根據生產(chan) 所掌握的有關(guan) 技術資料與(yu) 實際運作過程的經驗，主要采取的工藝對策有以下幾個(ge) 方麵： 

1．采取縮小排版尺寸，多數廠家製作多層板排版采取450×600或525×600(mm)。但對於(yu) 加工導線寬度為(wei) 0．10mm與(yu) 盲孔孔徑為(wei) 0．15mm的手機板，最好采用排版尺寸為(wei) 350×450(mm)上限。

2.加大激光直徑：目的就是增加對銅窗口被罩住的範圍。其具體(ti) 的做法采取“光束直徑＝孔直徑+90~100μm。能量密度不足時可多打一兩(liang) 槍加以解決(jue) 。

3．采取開大銅窗口工藝方法：這時隻是銅窗口尺寸變大而孔徑卻未改動，因此激光成孔的直徑已不再完全由窗口位置來決(jue) 定，使得孔位可直接根據芯板的上的底墊靶標位置去燒孔。

4．由光化學成像與(yu) 蝕刻開窗口改成YAG激光開窗法：就是采用YAG激光光點按芯板的基準孔首先開窗口，然後再用CO2激光就其窗位去燒出孔來，解決(jue) 成像所造成的誤差。 

5．積層兩(liang) 次再製作二階微盲孔法：當芯板兩(liang) 麵各積層一層塗樹脂銅箔(RCC)後，若還需再積層一次RCC與(yu) 製作出二階盲孔(即積二)者，其“積二”的盲孔的對位，就必須按照瞄準“積一”去成孔。而無法再利用芯板的原始靶標。也就是當“積一”成孔與(yu) 成墊時，其板邊也會(hui) 製作出靶標。所以，“積二”的RCC壓貼上後，即可通過X射線機對“積一”上的靶標而另鑽出“積二”的四個(ge) 機械基準孔，然後再成孔成線，采取此法可使“積二”盡量對準“積一”。 


2．孔型不正確 

根據多次生產(chan) 經驗積累，主要因為(wei) 所采用的基材成型所存在的質量問題，其主要質量問題是塗樹脂銅箔經壓貼後介質層的厚度難免有差異，在相同鑽孔的能量下，對介質層較薄的部分的底墊不但要承受較多的能量，也會(hui) 反射較多的能量，因而將孔壁打成向外擴張的壺形。這將對積層多層板層間的電氣互連品質產(chan) 生較大的影響。

由於(yu) 孔型不正確，對積層多層印製電路板的高密度互連結構的可靠性會(hui) 帶來一係列的技術問題。 

所以，必須采用工藝措施加以控製和解決(jue) 。主要采用以下幾種工藝方法：

(1)嚴(yan) 格控製塗樹脂銅箔壓貼時介質層厚度差異在510μm之間。

(2)改變激光的能量密度與(yu) 脈衝(chong) 數(槍數)，可通過試驗方法找出批量生產(chan) 的工藝條件。

(3)孔底膠渣與(yu) 孔壁的破渣的清除不良。

這類質量問題最容易發生，這是由於(yu) 稍為(wei) 控製不當就會(hui) 產(chan) 生此種關(guan) 型的問題。特別是對於(yu) 處理大拚版上多孔類型的積層板，不可能百分之百保證無質量問題。這是因為(wei) 所加工的大排板上的微盲孔數量太多(平均約6~9萬(wan) 個(ge) 孔)，介質層厚度不同，采取同一能量的激光鑽孔時，底墊上所殘留下的膠渣的厚薄也就不相同。經除鑽汙處理就不可能確保全部殘留物徹底幹淨，再加上檢查手段比較差，一旦有缺陷時，常會(hui) 造成後續鍍銅層與(yu) 底墊與(yu) 孔壁的結合力。