(a)增透膜的透過率(b)增透膜的反射率(c)增透膜的LIDT測試

紅外光學元件表麵反射損耗顯著，增透膜成為(wei) 提升器件效率的關(guan) 鍵。傳(chuan) 統紅外增透膜材料存在穩定性不足、易吸水等問題，而氧化物材料因高熔點、高環境穩定性成為(wei) 研究熱點。研究采用電子束蒸發（EB）與(yu) 離子輔助沉積（EB-IAD）技術，通過對比兩(liang) 種工藝發現：離子輔助技術顯著優(you) 化膜層質量，激光損傷(shang) 閾值提升，EB-IAD 增透膜在 2.097μm 激光下的 LIDT 達 91.91 J/cm²，而EB 工藝僅(jin) 為(wei) 11.25 J/cm²。研究成果有望應用於(yu) 中紅外非線性晶體(ti) ZnGeP2以及更多除了ZnGeP2晶體(ti) 以外的中紅外激光係統，如高功率激光加工、紅外成像、光通信等領域，推動相關(guan) 產(chan) 業(ye) 的發展。