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電子加工新聞

東京大學與英特爾共同研究光電子融合技術

激光製造商情 來源:廣東(dong) 星之球2010-12-27 我要評論(0 )   

東(dong) 京大學納米量子信息電子技術研究機構宣布,已於(yu) 2010 年 12 月開始與(yu) 美國英特爾就 LSI 間的光連接技術進行共同研究。 雙方共同研究的是 LSI 間光連接中使用的被稱為(wei) 光...

東(dong) 京大學納米量子信息電子技術研究機構宣布,已於(yu) 201012月開始與(yu) 美國英特爾就LSI間的光連接技術進行共同研究。

雙方共同研究的是LSI間光連接中使用的被稱為(wei) “光電子融合技術”的領域。其中,正大力開發作為(wei) LSI內(nei) 光源的矽芯片上的量子點激光。

共同研究的時間為(wei) 三年。東(dong) 京大學納米量子信息電子技術研究機構將從(cong) 英特爾手中獲得總額為(wei) 50萬(wan) 美元的研究經費。據該機構介紹,現已接受了14萬(wan) 2000美元作為(wei) 第一年的研究經費。

研究成果將公開

雖然接受了英特爾的資金援助,但研究成果會(hui) 向社會(hui) 公開,而不會(hui) 由英特爾壟斷。該機構負責人、東(dong) 京大學教授荒川泰彥解釋說,“如果取得重大研究成果的話,我們(men) 有可能會(hui) 取得專(zhuan) 利,但屆時不會(hui) 隻向英特爾提供授權。對於(yu) 英特爾,隻要在論文中向其致謝即可”。

 

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